[发明专利]一种齿科修复用光固化复合树脂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201310676816.1 申请日: 2013-12-12
公开(公告)号: CN103655208A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 张青红;许东煜;王宏志;李耀刚;周涓 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: A61K6/083 分类号: A61K6/083;C08F220/26;C08F222/20;C08K9/04;C08K3/34;C08K3/36
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所 31233 代理人: 黄志达
地址: 201620 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 齿科 修复 用光 固化 复合 树脂 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于齿科修复材料及其制备领域,特别涉及一种齿科修复用光固化复合树脂及其制备方法。

背景技术

最近几十年来,由于齿科修复复合树脂具有优异的美观性、生物相容性和出色的机械性能而被广泛用于临床龋齿修复。然而,由于齿科修复复合树脂的聚合收缩、收缩引起的应力、转化率低等原因而导致临床修复失败。幸运的是,近些年有着许多可提高复合树脂力学性能、减小聚合收缩的工作,主要包括:对基质单体进行官能团改性、分子量调节,甚至合成大分子为低粘度单体;改变填料种类、大小及形貌;添加偶联剂和其他组分等。

除上述性能外,齿科复合树脂还应具备X射线阻射性能,以便于检测继发龋。而传统的树脂材料如甲基丙烯酸甲酯型、双酚A型单体,X射线阻射性很差,与龋坏牙体之间无明显反差,当发生继发龋时,X射线片上难以将垫底材料、洞衬材料与继发龋进行鉴别(AAmirouche,M Mouzali,D C Watts.Journal of Applied Polymer Science.2007,104,1632)。而增加一些具备X射线阻射的无机填料,如BaO,BaSO4,TiO2,ZrO2,SrO等,可以达到检测的目的,但是同时又带来了一些问题,这些X射线阻射的无机物表面难以接枝偶联剂,与树脂相容性差,即使引入少量,也会给机械性能带来一些不利影响(RR Braga,RY Ballester,JL Ferracane.Dental Materials.2005,21,962)。因此,这些较重的金属元素氧化物的表面修饰至关重要,是决定复合树脂性能的关键。但是,这些氧化物的修饰表面缺少M-OH基团(M代表金属),难与偶联剂相成键合(S Klapdohr,N Moszner.Monatshefte Fur Chemie.2005,136,21)。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种齿科修复用光固化复合树脂及其制备方法,该方法工艺简单,反应条件温和,适合工业化生产;该方法制备的填料颗粒粒径均一且可控。

本发明的一种齿科修复用光固化复合树脂,所述光固化复合树脂包括树脂基体和填料,其中树脂基体包括树脂单体、稀释剂、光引发剂和助引发剂;填料为改性氧化硅和改性的SiO2/ZrO2/SiO2微球,其中填料占复合树脂总质量的65.0%-80.0%。

所述改性氧化硅占复合树脂总质量的60.5%-70.5%,改性的SiO2/ZrO2/SiO2微球占复合树脂总质量的3.0%-30.0%。

所述改性的氧化硅为γ-MPS改性的氧化硅,改性的SiO2/ZrO2/SiO2微球为γ-MPS改性的SiO2/ZrO2/SiO2微球。

所述树脂单体为乙氧基双酚-A-甲基苯烯酸酯EBPADMA,树脂单体占树脂基体质量的60%~80%。

所述稀释剂为二甲基丙烯酸三乙二醇酯TEGDMA,占树脂基体质量的20%~30%。

所述光引发剂为樟脑醌CQ,占树脂基体总质量的0.2%;助引发剂为对二甲氨基苯甲酸乙酯4-EDMAB,占树脂基体质量的0.8%。

本发明的一种齿科修复用光固化复合树脂的制备方法,包括:

(1)将氧化硅或SiO2/ZrO2/SiO2微球、环己烷、γ-MPS和正丙胺按5-15:60~100:1~3:1的质量比加入到容器中,混合搅拌,烘干,得到改性氧化硅或改性SiO2/ZrO2/SiO2微球;

(2)将树脂单体、稀释剂、光引发剂和助引发剂混匀,然后加入改性氧化硅和改性SiO2/ZrO2/SiO2微球,搅拌预混,然后混匀,即得光固化复合树脂。

所述步骤(1)混合搅拌为30℃条件下混合搅拌30-35min,然后升温至60℃,再搅拌30-35min。所述步骤(1)中烘干温度为60-80℃,烘干时间为12-18h。

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