[发明专利]来自氧安德卢梭法的HCN中有机腈杂质水平的减少

权利要求书

1.一种在氧安德卢梭法中的通过烷烃混合物与氨和氧在铂催化剂的存在下的安德卢梭氨氧化的HCN制备的方法，所述方法包括：

使用包含至少约98重量％纯度的甲烷的烷烃混合物。

2.权利要求1所述的方法，其中所述HCN产物比由其中使用更低甲烷纯度的烷烃混合物的可比较的氨氧化方法获得的HCN产物含有更少含量的一种或多种有机腈杂质。

3.权利要求1所述的方法，其中所述烷烃混合物中的甲烷纯度为至少约99重量％。

4.权利要求1所述的方法，其中所述烷烃混合物中的甲烷纯度为至少约99.9重量％。

5.权利要求2所述的方法，其中所述有机腈杂质包含乙腈、丙腈、丙烯腈或其混合物。

6.权利要求1-5中任一项所述的方法，其中与通过其中使用更低甲烷纯度的烷烃混合物的方法制备的HCN比较，观察到所述产物中更少量的HCN聚合物形成。

7.一种在氧安德卢梭法中的通过烷烃混合物与氨和氧在铂催化剂的存在下的安德卢梭氨氧化的HCN制备的方法，其中改进包括：

包含不大于约2重量％的乙烷、或丙烷、或其烯烃类似物、或其混合物的烷烃源的使用。

8.权利要求7所述的方法，其中所述HCN产物比当含有更高含量的乙烷、丙烷，或其烯烃类似物，或其混合物的烷烃源经历可比较的氨氧化时获得的HCN产物含有更少含量的有机腈杂质。

9.权利要求7所述的方法，其中所述烷烃源包含不大于约1重量％的乙烷，或丙烷，或其烯烃类似物，或其混合物。

10.权利要求7所述的方法，其中所述烷烃源包括不大于约0.1重量％的乙烷，或丙烷，或其烯烃类似物，或其混合物。

11.权利要求8所述的方法，其中所述有机腈杂质包含乙腈、丙腈、丙烯腈，或其混合物。

12.权利要求7-11中任一项所述的方法，其中与其中使用更高含量的乙烷，或丙烷，或其烯烃类似物，或其混合物的烷烃源的方法制备的HCN比较，观察到所述产物中更少量的HCN聚合物形成。

13.一种在氧安德卢梭法中的HCN制备的方法，其中所述产物HCN包含作为杂质的小于2重量％，或小于1重量％，或小于0.1重量％的一种或多种有机腈杂质，所述方法包括：

使氨、氧和烷烃混合物在铂催化剂的存在下、在适合于进行安德卢梭氨氧化反应的条件下接触，其中所述烷烃混合物包含小于约2重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

14.权利要求13所述的方法，其中所述烷烃混合物包含小于约1重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

15.权利要求13所述的方法，其中所述烷烃混合物包含小于约0.1重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

16.权利要求13所述的方法，其中所述有机腈杂质包含丙烯腈、乙腈或丙腈，或其混合物。

17.权利要求13-16中任一项所述的方法，其中与通过其中烷烃混合物包含更高含量的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃的方法制备的HCN比较，观察到所述产物中更少量的HCN聚合物形成。

18.一种减少用于HCN制备的氧安德卢梭连续工艺中设备停工时间的方法，所述方法包括使氨、氧和烷烃混合物在铂催化剂的存在下、在适合于进行安德卢梭氨氧化反应的条件下接触，其中所述烷烃混合物包含小于约2重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

19.权利要求18所述的方法，其中所述工艺设备比当在所述氧安德卢梭法中使用包含大于约2重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃的烷烃混合物时需要较低频繁的清洁以从其移除丙烯腈和氰化氢的聚合物。

20.权利要求18所述的方法，其中所述烷烃混合物包含小于约1重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

21.权利要求18所述的方法，其中所述烷烃混合物包含小于约0.1重量％的除甲烷之外的烷烃或它们的类似烯烃。

22.权利要求18-21中任一项所述的方法，其中所述工艺设备包括HCN浓缩塔。