[发明专利]原子层沉积装置

权利要求书

1.一种原子层沉积装置，其包括：

腔室，在内部形成封闭的反应空间；

第一气体吸排单元，对被供应至所述腔室内部的基板，供给或排出第一气体；以及

第二气体吸排单元，对所述基板供给第二气体或排出第二气体；

所述基板沿着与所述第一气体吸排单元或者所述第二气体吸排单元中的至少一个气体吸排单元的长度方向交叉的方向进行相对移动。

2.根据权利要求1所述的原子层沉积装置，其特征在于，还包括：

第一供气部，连接在所述第一气体吸排单元，供给第一气体；

第二供气部，连接在所述第二气体吸排单元，供给第二气体；

抽真空部，连接在所述第一气体吸排单元和所述第二气体吸排单元，用于在所述腔室内部形成真空。

3.根据权利要求2所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一气体吸排单元和第二气体吸排单元包括：

供气管，在内部形成有供气流道；

排气管，在内部形成有与所述供气流道连通的压力缓和部；以及

吸气管，包围所述排气管的外周面的至少一部分，以在内部形成吸气流道。

4.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，其特征在于，

所述压力缓和部的内部体积大于所述供气流道的内部体积。

5.根据权利要求3所述的原子层沉积装置，其特征在于，

在所述供气管形成有与所述第一供气部或第二供气部连接的至少一个供气口。

6.如权利要求5所述的原子层沉积装置，其特征在于，

在所述吸气管形成有与所述抽真空部连接的至少一个排气口。

7.如权利要求6所述的原子层沉积装置，其特征在于，

所述排气口被形成在所述腔室的吸入气体收集部以封闭方式包围，

所述吸入气体收集部与所述抽真空部连接。

8.一种原子层沉积装置，其包括：

腔室，在内部形成封闭的反应空间；

第一排气管，对位于所述腔室内部的基板供给第一气体；以及

第二排气管，对所述基板供给第二气体；

所述基板沿着所述第一排气管、所述第二排气管或者真空排气管中的至少一个的长度方向交叉的方向进行相对移动。

9.如权利要求8所述的原子层沉积装置，还包括：

第一供气部，连接在所述第一排气管，供给第一气体；

第二供气部，连接在所述第二排气管，供给第二气体；以及

抽真空部，连接在形成于所述腔室的真空口，用于在所述腔室内部形成真空或者在所述第一排气管和所述第二排气管之间形成真空。

10.如权利要求9所述的原子层沉积装置，其特征在于，

所述真空口以位于所述第一排气管和所述第二排气管之间的方式形成在所述腔室。

11.如权利要求10所述的原子层沉积装置，其特征在于，

所述真空口被形成在所述腔室的真空排气收集部以封闭方式包围。

12.如权利要求9所述的原子层沉积装置，其特征在于，所述第一排气管和所述第二排气管包括：

供气管，在内部形成有供气流道；

排气管主体，在内部形成有与所述供气流道连通的压力缓和部；以及

排气部，以与所述供气流道对置的方式形成在所述压力缓和部。

13.如权利要求12所述的原子层沉积装置，其特征在于，

所述压力缓和部的内部体积大于所述供气流道的内部体积。

14.如权利要求12所述的原子层沉积装置，其特征在于，

在所述供气管形成有与所述第一供气部或所述第二供气部连接的至少一个供气口。

15.如权利要求1至14中任一项所述的原子层沉积装置，其特征在于，还包括；

腔室干式泵，所述腔室干式泵连接在所述腔室，用于在腔室内部形成真空。