[发明专利]电镀槽

权利要求书

1.一种电镀槽，用于将铜或镓或铟或硒元素沉积于衬底的一表面，其特征在于，包括

电镀子槽，具有用于盛装电镀液的容纳腔；

阳极，用于沉积CIGS吸收层呈板状设置并挂设于所述电镀子槽的侧壁，

浸没于所述电镀液中；

传送装置，设置于所述电镀子槽的中间处，用于携带所述衬底同步移动，

所述传送装置的传动路径呈由多线段首尾相接而成的封闭状；

所述阳极分别与所述传送装置上沉浸于电镀液中对称设置的侧面平行相

对设置，所述衬底贴附于所述传送装置上沉浸于电镀液内的侧面且与所

述阳极平行相对设置。

2.根据权利要求1所述的一种电镀槽，其特征在于：所述传送装置包括一固定架、安装于所述固定架上部并抵顶所述衬底的至少一组主辊轮和安装于所述固定架下部并与所述主辊轮配合转动的至少一组从辊轮，以及传输带,所述传送带贴设于所述主辊轮和所述从辊轮的外周面上并携带所述衬底一同运动。

3.根据权利要求2所述的一种电镀槽，其特征在于：所述传送装置上的传输带的传动路径成矩形，所述阳极与所述传送装置上相对设置并沉浸于所述电镀液中的两侧面相对平行间隔设置。

4.根据权利要求1‐3中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述主辊轮和所述从辊轮的外周面与所述固定架的外侧壁相切。

5.根据权利要求1‐3中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述主辊轮和所述从辊轮的外周面凸出于所述固定架的外侧壁。

6.根据权利要求1‐3中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述传送装置上还设有用于调节所述传输带张紧度的调整装置，所述调整装置与所述主辊轮和所述从辊轮可调节连接。

7.根据权利要求2或3所述的一种电镀槽，其特征在于：所述传输带上还设有可吸附所述衬底使其与所述传输带贴合的吸附部。

8.根据权利要求1‐3中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述子槽内设置有至少一根镀液喷管，各所述镀液喷管上设置有均匀分布的喷孔。

9.根据权利要求8所述的一种电镀槽，其特征在于：所述喷孔为锥形孔，所述喷孔的内壁沿所述镀液喷管的管内向管外方向逐渐扩大。

10.根据权利要求9所述的一种电镀槽，其特征在于：同一镀液喷管上设置的喷孔间的距离与所述喷孔的直径比在20:1至5:1之间。

11.根据权利要求10所述的一种电镀槽，其特征在于：同一所述镀液喷管上设置有两排喷孔，所述两排喷孔的喷射方向呈夹角设置。

12.根据权利要求11所述的一种电镀槽，其特征在于：所述喷孔的喷射方向朝向所述电镀子槽的底壁。

13.根据权利要求12所述的一种电镀槽，其特征在于：所述镀液喷管至所述子槽底部的距离与所述电镀子槽的电镀液的深度比在1：7至1:20之间。

14.根据权利要求1‐3、9‐13中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述电镀子槽内设置有用于平缓电镀液流速的均流网，所述均流网位于所述传送装置和所述镀液喷管之间。

15.根据权利要求14所述的一种电镀槽，其特征在于：所述均流网为平板，所述平板上设置有均匀分布的网孔。

16.根据权利要求15所述的一种电镀槽，其特征在于：所述平板的厚度与所述电镀子槽内的电镀液的深度比在1：50至1:300之间。

17.根据权利要求16所述的一种电镀槽，其特征在于：所述网孔为锥孔，所述网孔的内壁的直径沿竖直向上方向逐渐增大。

18.根据权利要求17所述的一种电镀槽，其特征在于：所述均流网至所述镀液喷管的距离与所述镀液喷管至所述电镀子槽底壁的距离比在2:1至于10:1之间。

19.根据权利要求18所述的一种电镀槽，其特征在于：所述均流网的网目在5‐50之间。

20.根据权利要求1‐3、9‐13、15‐19中任一项所述的一种电镀槽，其特征在于：所述电镀子槽的侧壁上设有溢流装置，所述溢流装置通过镀液回流管与所述电镀子槽连通。