[发明专利]单晶体的上炉体

说明书

技术领域

本发明涉及单晶硅制造设备技术领域，特别涉及一种单晶炉的上炉体。

背景技术

单晶硅是具有完整的点阵结构的晶体，是一种良好的半导体材料，目前被广泛应用于半导体器件以及太阳能电池的制造。单晶硅使用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成的，在市场上有很广阔的前景。目前单晶硅的拉制装置为单晶炉，它是由上炉体、下炉室、上炉室、炉盖、翻板箱、副室六大部分组成，目前普遍采用的单晶炉的上炉体只有单层炉壁，由于在单晶炉的工作过程中长时间处于高温状态，会将上炉体烧坏，造成很大的损失。

发明内容

本发明的目的是提供一种使用寿命长，能够散热的单晶炉的上炉体。

实现本发明的技术方案如下：

一种单晶炉的上炉体，包括上法兰、下法兰、炉内壁和炉外壁，所述上法兰和下法兰之间设有炉外壁和炉内壁，炉外壁上设有进水口和出水口，炉外壁和炉内壁之间设有水夹层，水夹层内设有若干个过滤板，过滤板两边与水夹层内的炉外壁和炉内壁连接固定，过滤板上开设有若干个通孔，每相邻两个过滤板上的通孔为交错对应。

所述过滤板均布于水夹层内且相互平行，过滤板上的通孔为均匀布置，能够使水的流量均匀，充分达到吸收热量的效果。

所述过滤板为耐高温的金属板，能够吸收热量而不至于变形。

所述进水口与出水口在相反的位置，且进水口的位置高于出水口，易于操作。

本发明的有益效果是：炉外壁和炉内壁之间的水夹层内为冷却系统，通过冷却系统可以降低上炉体的温度，过滤板能够使冷却介质在水夹层内充分吸收热量，从而达到冷却的效果，结构简单且散热快。

附图说明

图1为本发明的结构示意图；

图2为过滤板的结构示意图。

附图中，1为上法兰，2为下法兰，3为进水口，4为出水口，5为炉内壁，6为炉外壁，7为过滤板，8为通孔，9为水夹层。

具体实施方式

下面结合附图对本发明进行进一步说明；

参见图1和图2所示，一种单晶炉的上炉体，包括上法兰1、下法兰2、炉内壁5和炉外壁6，所述上法兰1和下法兰2之间设有炉外壁6和炉内壁5，炉外壁上6设有进水口3和出水口4，炉外壁6和炉内壁5之间设有水夹层9，水夹层9内设有若干个过滤板7，过滤板7两边与水夹层9内的炉外壁6和炉内壁5连接固定，过滤板7上开设有若干个通孔8，每相邻两个过滤板7上的通孔为交错对应。

所述过滤板7均布于水夹层9内且相互平行，过滤板7上的通孔8为均匀布置，能够使水的流量均匀，充分达到吸收热量的效果，过滤板7为耐高温的金属板，能够吸收热量而不至于变形，进水口3与出水口4在相反的位置，且进水口3的位置高于出水口4，易于操作。

本发明并不局限于所述的实施例，本领域的技术人员在不脱离本发明的精神即公开范围内，仍可作一些修正或改变，故本发明的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。