[发明专利]化学机械抛光控制系统的远程访问客户端有效

专利信息
申请号: 201310684504.5 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN103678974A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 路新春;李弘恺;田芳馨;王同庆;赵乾;何永勇 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G06F21/31 分类号: G06F21/31;G06F17/30;H04L29/06
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张大威
地址: 100084 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 化学 机械抛光 控制系统 远程 访问 客户端
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,用于工艺人员访问化学机械抛光控制系统的晶圆加工信息数据库,其中,所述晶圆加工信息数据库由MySQL数据库管理系统构建,运行在独立的服务器上,其特征在于,

所述客户端与所述服务器远程通讯,用于根据工艺人员输入的信息向所述服务器发送对所述晶圆加工信息数据库的访问请求,以通过所述服务器获取访问所述晶圆加工信息数据库的权限;

所述服务器用于接收所述客户端发出的对所述晶圆加工信息数据库的访问请求,并根据所述访问请求向所述客户端提供相应的服务;

所述晶圆加工信息数据库用于记录和保存晶圆的加工信息数据。

2.根据权利要求1所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述客户端具有独立的操作界面,具体包括:基本登录界面、参数设置界面和信息浏览窗口。

3.根据权利要求1所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述晶圆加工信息数据包括:晶圆编号、工艺时间、晶圆状态及晶圆的工艺配方。

4.根据权利要求2所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述客户端用于通过工艺人员在其操作界面输入的信息向所述服务器发送连接指令以建立连接,连接成功后,所述服务器验证所述工艺人员的身份信息,在所述服务器验证所述工艺人员身份正确后,进入所述晶圆加工信息数据库,并进行所述工艺人员权限下的相关操作。

5.根据权利要求4所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述工艺人员输入的信息包括:所述服务器的IP地址、所述服务器监听的端口号、所述晶圆加工信息数据库的名称、所述工艺人员的用户名及密码,其中,所述服务器的IP地址和所述服务器监听的端口号用于所述客户端与所述服务器建立连接,所述晶圆加工信息数据库的名称用于指明工艺人员要求访问的数据库,所述工艺人员的用户名及密码用于所述服务器验证所述工艺人员的身份。

6.根据权利要求4所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述工艺人员权限下的相关操作内容包括:查询、修改和删除信息。

7.根据权利要求4所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述客户端的工作流程包括:(1)登录所述晶圆加工信息数据库,(2)数据操作,(3)退出所述晶圆加工信息数据库,其中,退出所述晶圆加工信息数据库后,所述客户端还用于关闭其操作界面,并断开与所述服务器的连接,释放所述客户端进程。

8.根据权利要求4所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述客户端还用于在获取到需要的数据后,对所述数据进行信息的显示和组合,以方便工艺人员的后续操作。

9.根据权利要求1所述的化学机械抛光控制系统的远程访问客户端,其特征在于,所述化学机械抛光控制系统的远程访问客户端内部利用Qt数据库访问接口,开发时,需要编译所述晶圆加工信息数据库的MySQL数据库驱动,并以插件的形式应用,在创建数据库连接时应完成以下3个操作:激活驱动程序,设置连接信息,打开连接;在数据库连接成功后,所述客户端使用标准的结构化查询语言对数据库进行查询、删除和添加等常规操作。

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