[发明专利]沉积设备、薄膜形成方法、有机发光显示设备及制造方法有效
| 申请号： | 201310684603.3 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104069977B | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 许明洙;金善浩;朱儇佑;金宰贤 | 申请（专利权）人： | 三星显示有限公司 |
| 主分类号： | B05B16/20 | 分类号： | B05B16/20;H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 张云珠;李云霞 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积 设备 薄膜 形成 方法 有机 发光 显示 制造 | ||
【权利要求书】：
1.一种构造为在基底上形成沉积层的沉积设备，所述沉积设备包括：
沉积源，构造为面向基底的第一侧并朝向基底喷射一种或多种沉积材料；
冷却台，构造为支撑基底的与基底的第一侧相对的第二侧；
硬化单元，构造为硬化从沉积源喷射的并已到达基底的所述一种或多种沉积材料；以及
支撑构件，构造为支撑沉积源和硬化单元，
其中，支撑构件包括多个窗口，并且
硬化单元包括与窗口对应的多个硬化构件，并且
硬化构件通过窗口朝向基底辐射光。
2.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，冷却台被构造为接触基底。
3.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，冷却台至少与基底一样大。
4.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，冷却台包括构造为使冷却材料循环的冷却通道。
5.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积源包括喷射所述一种或多种沉积材料的一个或多个喷嘴。
6.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，沉积源为花洒的形式。
7.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，硬化单元比沉积源离基底更远。
8.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，硬化构件被构造为朝向基底辐射紫外光。
9.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，支撑构件围绕沉积源的侧面。
10.根据权利要求1所述的沉积设备，其中，所述多个硬化构件在第一方向上至少具有基底在第一方向上的长度，其中，第一方向为硬化构件的延伸方向。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司，未经三星显示有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310684603.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
