[发明专利]用于离子注入装置的高电压电极的绝缘结构有效

专利信息
申请号: 201310684864.5 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN104078299A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 佐藤正辉;松下浩 申请(专利权)人: 斯伊恩股份有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01B17/64
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 离子 注入 装置 电压 电极 绝缘 结构
【权利要求书】:

1.一种高电压电极的绝缘结构,其用于离子注入装置,该高电压电极的绝缘结构的特征在于,具备:

作为电极的两个导体部;及

介于所述两个导体部之间的绝缘体,

所述两个导体部分别与所述绝缘体连接,

所述绝缘体具备向真空空间露出的露出表面,

所述两个导体部分别具备导体主体,该导体主体具备与所述绝缘体相接的接合区域、向所述真空空间露出的露出区域、及位于所述接合区域与所述露出区域之间的边界区,

所述两个导体部中的至少一个导体部具备配置于所述导体主体的至少一个导体要件,

所述导体要件设于所述边界区的至少一部分上,以便与所述绝缘体的所述露出表面相邻,并由熔点高于所述导体部的导电材料形成。

2.根据权利要求1所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导体要件以与所述绝缘体的所述露出表面之间留有间隙的方式配设。

3.根据权利要求1或2所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述绝缘体具备与所述边界区对置的对置部分,在所述对置部分及所述边界区中的至少一个上形成有凹部,所述导体要件的至少一部分容纳于所述凹部。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导体要件与所述绝缘体的基部相邻,所述绝缘体的基部与所述接合区域相接。

5.根据权利要求1~4中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述高电压电极的绝缘结构还具备保持所述导体要件的保持部件,所述保持部件由不同于所述导体要件的材料形成。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导体要件在所述绝缘体的所述露出表面与所述接合区域之间具有0.5mm以上的沿面距离。

7.根据权利要求1~6中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导体要件在所述绝缘体的所述露出表面与所述露出区域之间具有0.5mm以上的沿面距离。

8.根据权利要求1~7中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导体要件在所述绝缘体的所述露出表面与所述导体主体之间具有30μm以上的厚度。

9.根据权利要求1~8中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述接合区域与所述绝缘体之间设有真空密封部件。

10.根据权利要求1~9中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述绝缘体的所述露出表面为包围所述真空空间的所述绝缘体的内壁面,所述导体要件沿所述内壁面的整周形成。

11.根据权利要求1~9中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述绝缘体的所述露出表面为包围所述真空空间的所述绝缘体的内壁面,所述导体要件沿所述内壁面的一部分形成。

12.根据权利要求1~11中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

对所述两个导体部中的一个导体部施加第1直流电压,对所述两个导体部中的另一个导体部施加不同于所述第1直流电压的第2直流电压。

13.根据权利要求1~11中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

对所述两个导体部之间施加交流电压,所述两个导体部分别具备所述导体要件。

14.根据权利要求1~13中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导电材料包含石墨。

15.根据权利要求1~13中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导电材料包含钨、钽或钼。

16.根据权利要求1~13中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导电材料包含碳化硅、碳化钽或碳化钨。

17.根据权利要求1~13中任一项所述的高电压电极的绝缘结构,其特征在于,

所述导电材料包含铁。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于斯伊恩股份有限公司,未经斯伊恩股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310684864.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top