[发明专利]防止胶吸入的匀胶机托盘

说明书

技术领域

本发明涉及匀胶机设备领域，特别是涉及一种防止胶吸入的匀胶机托盘。背景技术

现有的光刻胶匀胶台采用真空吸片的方式吸住硅片，但现有的硅片承片台无法有效的阻挡光刻胶在甩动过程中渗入真空吸片口中，如图1所示的现有技术，硅片与真空吸片口直接接触，匀胶机在高速旋转过程中，光刻胶受旋转离心力和表面张力的联合作用，被展开成一层薄膜，其中甩动过程中被甩出至硅片边缘的胶滴，由于硅片边缘与承片台吸片口的压力差和胶体的表面张力的作用，部分硅片边缘的胶滴会沿着硅片的背面被吸入真空吸片口中，从而堵塞真空吸片口，造成真空吸片口吸力不足，从而造成光刻胶薄膜的均匀性变差，同时会对匀胶台造成损伤。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种防止胶吸入的匀胶机托盘，能够有效地阻挡光刻胶在甩动过程中被吸入真空吸片口内，同时能防止流入储胶槽内的光刻胶达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种防止胶吸入的匀胶机托盘，包括：硅片承片台、真空吸片结构和位于真空吸片结构上的吸口保护结构；所述硅片承片台的上端设有硅片承载平面、中间开设有一凹进的储胶槽，在所述储胶槽的中间设有一凸台；所述真空吸片结构包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm；所述吸口保护结构位于所述凸台的顶端，在所述吸口保护结构内还设有“T”状抽气通道，并且所述抽气通道的下端口与所述真空吸片口连通。

在本发明一个较佳实施例中，所述储胶槽为圆台型，包括：槽口和槽底，并且所述槽口的面积大于所述槽底的面积。

在本发明一个较佳实施例中，所述凸台为圆柱形，其高度为所述储胶槽深度的3/5-4/5。

在本发明一个较佳实施例中，所述吸口保护结构呈圆柱形帽状结构，包括：帽顶、帽底和位于所述帽顶与帽底间向内凹的帽壁。

在本发明一个较佳实施例中，所述抽气通道两侧的抽气通孔位于所述帽壁上，并且靠近于所述帽顶。

在本发明一个较佳实施例中，所述真空吸片口的圆心与所述硅片承载平面的圆心在同一垂直线上。

本发明的有益效果是：本发明防止胶吸入的匀胶机托盘，在硅片承片台的中间开设储胶槽，使光刻胶在甩动过程中被甩出至硅片背面的胶水在重力的作用下首先流入到储胶槽中，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致吸力不足或堵塞；并且在凸台的顶端安装有帽状结构的吸口保护结构，在其内部设有“T”状抽气通道，一方面保护真空吸片口，彻底防止胶滴滴入，另一方面改变气流吸入方向为侧向，使储胶槽和硅片形成的真空腔体内形成一定的气压差，同时吸口保护结构上的帽底能防止流入储胶槽内的光刻胶在达到一定高度后再次被吸入真空吸片口内。 

附图说明

图1是现有匀胶机托盘结构示意图；

图2是本发明防止胶吸入的匀胶机托盘一较佳实施例的结构示意图；

图3是图2所示局部放大结构示意图；

图4是图2所示处于工作状态的结构示意图；

附图中各部件的标记如下：1、硅片承片台，2、真空吸片结构，3、吸口保护结构，4、硅片，10、储胶槽，11、凸台，12、硅片承载平面，20、上端，21、真空吸片口，30、抽气通孔，31、帽壁，32、帽顶，33、帽底，100、槽口，101、槽底，H、真空吸片口与硅片承载平面间的垂直距离。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图2、图3和图4，本发明实施例包括：