[发明专利]彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201310689126.X 申请日: 2013-12-12
公开(公告)号: CN103676299A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 袁慧芳;陆相晚 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 李迪
地址: 230012 安徽*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 彩膜基板 显示装置 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示领域,尤其涉及一种彩膜基板、显示装置及彩膜基板的制造方法。

背景技术

扭曲向列(Twisted Nematic,TN)型液晶显示器是一种常见的液晶显示器,该种液晶显示器主要由彩膜基板和阵列基板对盒而成,其中,彩膜基板的制作方法如图1至图3所示,首先在衬底基板1'上形成黑矩阵2'的图形,并在衬底基板1'上涂覆色阻材料3',并通过掩膜版4'对其进行曝光处理,该掩膜版4'包括不透光区域5'和开口部6',紫外光通过开口部6'照射至色阻材料上,之后对曝光处理后的衬底基板1'进行显影烘烤处理,从而使彩色滤光单元8'与黑矩阵2'间隔设置在衬底基板1',其中,在得到的彩膜基板中,彩色滤光单元8'和黑矩阵2'的搭接区域7'形成角段(PW),为了提高TN(Twisted Nematic,扭曲向列型)产品品质,管理与控制角段差一直是各大面板厂商在实际量产中需要考虑的课题,角段差过大,影响液晶取向(Rubbing)工艺、液晶扭转、LCD画面品质。目前,可以通过降低黑矩阵厚度或者提高色阻层的厚度的方法来改善角段差。但是,降低黑矩阵厚度,存在光学密度降低,影响对比度,将色阻层膜厚提高,则存在透过率低的问题。

发明内容

(一)要解决的技术问题

本发明要解决的技术问题是:如何减小彩膜基板中黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角段差。

(二)技术方案

为解决上述技术问题,本发明提供了一种彩膜基板,包括衬底基板和多个彩色滤光单元,所述多个彩色滤光单元间隔设置在所述衬底基板上,相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵,所述黑矩阵上设置有凹槽,所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠,所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。

进一步地,所述凹槽位于所述黑矩阵的中部。

进一步地,所述凹槽的深度小于或等于所述黑矩阵的厚度。

进一步地,所述凹槽的截面形状为矩形或者梯形。

为解决上述技术问题,本发明还提供一种彩膜基板的制造方法,包括:

在衬底基板上形成黑矩阵,所述黑矩阵上设置有凹槽;

在所述衬底基板上形成多个间隔设置的彩色滤光单元,使所述黑矩阵位于相邻两个彩色滤光单元之间,且所述黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠,所述重叠的区域延伸至所述黑矩阵上的凹槽。

为解决上述技术问题,本发明还提供一种显示装置,包括阵列基板和上述任意一种的彩膜基板。

进一步地,所述阵列基板上设置有与所述黑矩阵相对的数据线,所述黑矩阵的凹槽与所述数据线正对设置。

进一步地,所述黑矩阵的凹槽的宽度小于或等于所述数据线的宽度。

(三)有益效果

本发明通过在彩膜基板上的黑矩阵上设置凹槽,并使该黑矩阵与相邻的彩色滤光单元重叠的区域延伸至该黑矩阵的凹槽,从而能够有效的减小黑矩阵与相邻的彩色滤光单元之间的角度差,提高显示品质。

附图说明

图1~3是现有技术提供的制造彩膜基板的示意图;

图4是本发明实施方式提供的一种彩膜基板的结构图;

图5~6是本发明实施方式提供的制造彩膜基板的示意图;

图7是本发明实施方式提供的一种黑矩阵的结构图

图8是本发明实施方式提供的一种显示装置的结构图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。

图4是本发明实施方式提供的一种彩膜基板,包括衬底基板1和多个彩色滤光单元,所述多个彩色滤光单元间隔设置在所述衬底基板上,相邻两个彩色滤光单元之间还设置有黑矩阵2,所述黑矩阵2上设置有凹槽21,所述黑矩阵2与相邻的彩色滤光单元8重叠,所述重叠的区域7延伸至所述黑矩阵2上的凹槽21。

在本发明实施方式中,凹槽21可以位于黑矩阵2的中部。

此外,凹槽21的深度可以小于或等于所述黑矩阵2的厚度。优选地,该凹槽的深度21可以等于黑矩阵2的厚度。

其中,所述凹槽的截面形状为矩形或者梯形。

其中,黑矩阵2与相邻的彩色滤光单元8重叠的宽度可以为6~7um。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310689126.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top