[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称TFT-LCD）具有体积小，功耗低，无辐射等特点，近年来得到迅速发展，在当前的平板显示器市场中占据主导地位。

TFT-LCD的主体结构包括对盒的阵列基板和彩膜基板，在阵列基板和彩膜基板之间填充的液晶分子。阵列基板上形成有数据线、栅线和公共信号线，以及由数据线和栅线限定的像素单元，每个像素单元包括薄膜晶体管（Thin Film Transistor，简称TFT）和透明像素电极。其中，公共信号线和栅线由同层金属形成，为阵列基板提供基准电压。彩膜基板上形成有彩色滤光片、黑矩阵和隔垫物，黑矩阵限定亚像素单元，亚像素单元与阵列基板上的像素单元位置对应。隔垫物位于黑矩阵所在的区域，起到支撑作用，用于在阵列基板和彩膜基板之间形成一定的空间，填充液晶分子。相应地，阵列基板上与隔垫物对应的位置设置有隔垫物支撑区域，其由TFT有源层和源漏金属层制成。TFT-LCD还包括公共电极，透明像素电极与公共电极之间形成驱动液晶分子偏转的电场，实现画面显示。

在工作过程中，隔垫物和阵列基板上的隔垫物支撑区域若产生摩擦，会产生静电，静电会存在隔垫物周边，进而影响隔垫物周边液晶分子的取向，产生漏光等现象。

发明内容

本发明提供一种阵列基板及其制备方法，用以解决隔垫物和阵列基板上的隔垫物支撑区域产生摩擦，摩擦产生的静电会影响隔垫物周边液晶分子的取向，造成的漏光等问题。

本发明还通过一种显示面板，其包括上述阵列基板，用于保证显示面板的显示质量。

为解决上述技术问题，本发明提供一种阵列基板，所述阵列基板的上方具有一保护层，所述保护层上具有一隔垫物支撑区域，其中，所述保护层上设置有一电荷传递层，所述电荷传递层的至少一部分位于所述隔垫物支撑区域内，所述阵列基板上还设置有一静电释放单元，所述电荷传递层与所述静电释放单元电连接。

本发明还提供一种显示面板，其包括对盒设置的阵列基板和彩膜基板，所述彩膜基板上形成有隔垫物，所述阵列基板采用上述的阵列基板，所述隔垫物与所述电荷传递层接触设置。

同时，本发明还提供一种阵列基板的制作方法，包括：

在保护层上形成一与静电释放单元电连接的电荷传递层，所述电荷传递层的至少一部分位于保护层上的隔垫物支撑区域内。

本发明的上述技术方案的有益效果如下：

上述技术方案中，通过在阵列基板上的隔垫物支撑区域设置电荷传递层，并设置与所述电荷传递层电连接的静电释放单元，从而可以释放隔垫物和隔垫物支撑区域摩擦产生的静电，克服了该静电对隔垫物周边的液晶分子取向产生影响，造成的漏光等问题。

附图说明

图1表示本发明实施例中阵列基板的结构示意图；

图2表示本发明实施例中液晶显示面板沿图1中A-A方向的局部剖视图。

具体实施方式

为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

结合图1和图2所示，对于液晶显示面板，其包括对盒设置的阵列基板100和彩膜基板200，以及填充在阵列基板100和彩膜基板200之间的液晶分子8。为了在阵列基板100和彩膜基板200之间形成一定的空间，在彩膜基板200上形成有隔垫物5，在阵列基板100上与隔垫物5对应的位置形成有隔垫物支撑区域，阵列基板100和彩膜基板200对盒后，隔垫物5起到支撑作用，形成一定的空间。其中，隔垫物支撑区域通常位于栅线20上方，由形成TFT的有源层和源漏金属层形成，包括有源层支撑区域11和源漏金属层支撑区域12，在源漏金属层支撑区域12上方形成有保护层103（为绝缘材质）。

但是在工作过程中，隔垫物5和阵列基板100上的隔垫物支撑区域若产生摩擦，摩擦产生的静电存在隔垫物5周边，进而影响隔垫物5周边液晶分子8的取向，产生漏光等现象。

实施例一