[发明专利]一种立式真空溅射镀膜生产线

权利要求书

1.一种立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于，包括：一传送流水线和一镀膜流水线，镀膜流水线与传送流水线连接，传送流水线传送基片，镀膜流水线包括进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室，所述进口腔室、进口过渡腔室、进口缓冲腔室、镀膜腔室、出口缓冲腔室、出口过渡腔室和出口腔室依次首尾连接，所述基片通过进口腔室从传送流水线进入镀膜流水线，通过出口腔室从镀膜流水线移出；所述传送流水线与镀膜流水线平行设置。

2.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：镀膜腔室中设有一移动式阴极装置，所述移动式的阴极装置的靶材轰击轨道非固定。

3.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述移动式阴极装置包括阴极组件和平移组件，所述阴极组件与平移组件固定连接且随平移组件的运动平动，其中阴极为平面磁控溅射阴极；所述阴极组件与平移组件通过一绝缘件连接。

4.如权利要求3所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述平移组件由外至内依次为移动件、滚珠丝杠件、安装件和支撑件，其中移动件分别与绝缘件和滚珠丝杠件中的螺母连接，安装件与滚珠丝杠件中的固定件连接，且安装件与支撑件连接。

5.如权利要求1所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述镀膜流水线设有至少一个传动机构，所述传动机构设置于镀膜流水线的各腔室，基片在镀膜流水线的各腔室内通过传动机构运输。

6.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述镀膜流水线设有与各功能腔室数量匹配的门体结构,所述门体结构配置于各功能腔室，包括室门和门框，室门的两侧均与门框活动连接，各功能腔室配置的门体结构尺寸及配置各功能腔室的方式均一致。

7.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述镀膜流水线中包括至少一个管道耦合组件，所述管道耦合组件包括上耦合件和下耦合件，上下耦合件活动连接并密封，上下耦合件分别固定连接同一管道；上下耦合件耦合密封时，管道连通；上下耦合件分离时，管道断开。

8.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述立式真空溅射镀膜生产线包括至少一个装片装置，所述装片装置包括一固定组件和一调节组件，调节组件安装在固定组件上，通过调节调节组件的位置安装不同规格的基片。

9.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述镀膜流水线包括至少两个旋转门阀，所述旋转门阀安装在进口腔室和出口腔室与传送流水线接触的腔壁上，旋转门阀包括一门阀组件和一门阀驱动组件，门阀驱动组件与门阀组件一端连接，通过门阀驱动组件驱动门阀组件旋转。

10.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述传送流水线包括至少一个传送装置所述传送装置包括轨道和至少一个传送车，轨道带电，传送车包括至少两个电极引入件，电极引入件与轨道电连接驱动传送车在轨道上运行；装片装置安装在传送装置上。

11.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述立式真空溅射镀膜生产线还设有至少一基片识别组件，该基片识别组件安装在装片装置和传送装置上，该基片识别组件包括：至少n个识别孔(n≥1)和一识别器，识别孔设置在装片装置上，识别器安装在传送装置上，识别器进一步包括一红外线发射单元、一红外线接收单元和一转换单元，转换单元与红外线接收单元连接，红外线发射单元与识别孔的高度一致。

12.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：该立式真空溅射镀膜生产线还设置有至少两个旋转平台机构，分别位于该立式真空溅射镀膜生产线的两侧，用于传送流水线与镀膜流水线间的基片中转传递机构，连接传送流水线和镀膜流水线。

13.如权利要求2所述的立式真空溅射镀膜生产线，其特征在于：所述立式真空溅射镀膜生产线还包括一监控系统，该监控系统包括显示模块、处理模块、数据存储模块、通讯接口模块、数据转换模块、以及分布在生产线上的各监控部件；

所述显示模块连接所述处理模块，所述处理模块连接所述数据存储模块，所述数据存储模块通过所述通讯接口模块与所述数据转换模块连接；所述数据转换模块通过现场总线，与分布在生产线上的各监控部件通信；

所述数据转换模块通过所述现场总线对所属监控部件中的数据进行采集，并进行格式转化，以形成统一的数据并通过所述通讯接口模块发送至所述数据存储模块；所述数据存储模块用于存储传送来的数据；所述处理模块读取所述数据存储模块中的数据并处理，然后发送至所述显示模块显示。