[发明专利]一种TEM的样品制备方法

权利要求书

1.一种TEM的样品制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)提供一含有目标的样品，在所述样品内、距离所述目标为L的一侧做标记，其中，L为2～4μm；

2)然后在所述样品表面粘贴或沉积一层透明材料；

3)对步骤2)之后获得的结构从标记邻近端进行研磨，直至暴露出之前所做的标记；

4)根据暴露出来的标记确定目标位置，在所述研磨之后形成的截面上对应目标的位置处镀一层铂层；

5)使用FIB对步骤4)之后获得的样品进行切割和减薄，得到所需的TEM样品。

2.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤1)中制作标记的方法为激光或FIB。

3.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤1)中所述标记的横截面为圆形、三角形或多边形。

4.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤1)中所做标记为两个，所述标记位于目标的一侧，以目标所在的轴线为中心上下对称分布于目标两侧。

5.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤1)中所做标记为一个，所述标记位于目标的一侧，与目标位于同一水平直线上。

6.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤2)中所述粘贴的透明材料为透明塑料、透明晶体、透明陶瓷、透明玻璃或所述沉积的透明材料为透明薄膜。

7.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤4)中采用FIB镀所述铂层。

8.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤4)中所镀铂层的面积大于或等于目标的面积。

9.根据权利要求1所述的TEM的样品制备方法，其特征在于：步骤4)中所镀铂层的厚度为0.5～1.0μm。