[发明专利]生物搪瓷辐射板及其制备方法有效
申请号: | 201310702993.2 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN103695844A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 袁先洪;钟江泉;向小阳;王联;卫东;周天勇 | 申请(专利权)人: | 重庆市硅酸盐研究所 |
主分类号: | C23C14/16 | 分类号: | C23C14/16;C23C14/08;C23C14/34;A61N2/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 401320 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生物 搪瓷 辐射 及其 制备 方法 | ||
1.生物搪瓷辐射板,其特征在于:包括基材、第一靶材、第二靶材和金属钛,第一靶材包括:Fe、Cr、Zr、Cu、Ni、Al、Bi和Ti ;第二靶材包括:Mg、Se、Ba、Cd、Sn、Mn、W、Co、Mo、Zn和Ir。
2.如权利要求1所述生物搪瓷辐射板,其特征在于:所述的第一靶材和第二靶材的材料含量为:
第一靶材,Fe:3-10份、Cr:5-15份、Zr:3-7份、Cu:2-6份、Ni:2-5份、Al:9-15份、Bi:6-8份、Ti:15-18份;
第二靶材,Mg:1-2份、Se:2份、Ba:1-4份、Cd:2-3份、Sn:2-3份、Mn:4-5份、W:2-4份、Co:4-8份、Mo:3-5份、Zn:5-8份Ir:5-7份。
3.如权利要求1或2所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,制备方法步骤包括:
一、用真空溅射的方法在基材上溅射Ti靶,制备生物搪瓷氧化膜;
二、通入氧气,溅射第一靶材,在基体上形成第一靶材氧化物复合层;
三、关闭第一靶材溅射,开启第二靶材溅射,在第一靶材氧化物复合层上溅射第二靶材氧化物复合层。
4.如权利要求3所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的步骤一中的制备工艺参数如下:
工作压力0.1-0.05Pa;
溅射气体:99.99氩气;
溅射的工作电流:5-10A;
溅射厚度:5μm。
5.如权利要求3所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的步骤二中形成的第一靶材氧化物复合层的厚度为:20-25μm。
6.如权利要求4或5所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的第一靶材氧化物复合层包括:FeO、CrO、ZrO2、 CuO、NiO、Al2O3、Bi2O3和TiO2。
7.如权利要求4或5所述生物搪瓷辐射板的制备方法,其特征在于,所述的第二靶材氧化物复合层包括:MgO、SeO、BaO、CdO、SnO、 Mn2O3、W2O3、CoO2、MoO2、ZnO和IrO2。
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