[发明专利]真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法在审
| 申请号： | 201310706202.3 | 申请日： | 2013-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104726831A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 林孟君 | 申请（专利权）人： | 华泰（桐乡）玻璃明镜有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 天津三元专利商标代理有限责任公司 12203 | 代理人： | 胡畹华 |
| 地址： | 314500 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 磁控溅射 金属膜 厚度 控制 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法，其特征在于，包括如下步骤：
一挡板，位于真空磁控溅射金属膜层真空室中，可于玻璃输送过程于侧向形成遮挡，让玻璃表面呈现所设定不同膜厚的图案效果；
一电流控制器，于真空磁控溅射金属膜层生产室中，控制电流强度作用于金属靶材，于玻璃表面形成设定的膜层厚度；
一输送速度控制器，于真空磁控溅射金属膜层真空室中，控制输送器输送玻璃的速度，可于玻璃表面依行程设定形成不同的膜层厚度。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法，其特征在于，所述挡板为一个以上。
3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射金属膜层厚度控制方法，其特征在于，所述挡板可设定移动位置使金属膜层产生图案的变化。
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