[发明专利]双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置

权利要求书

1.一种双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，用于检测平面掩膜缺陷，其特征在于：包括激光光源（1）、孔径光阑（2）、正透镜（3）、半透半反分光镜（4）、双焦波带片（5）、待测平面掩膜（6）、CCD探测器（7）；共光轴依次布置激光光源（1）、孔径光阑（2）、正透镜（3）、半透半反分光镜（4）、双焦波带片（5）、待测平面掩膜（6），孔径光阑（2）位于正透镜（3）的焦点上，激光源（1）发出激光，入射至孔径光阑（2），经孔径光阑（2）形成点光源，再经正透镜（3）形成平行光，平行光穿过半透半反分光镜（4），入射到双焦波带片(5)，双焦波带片(5)的0级衍射光束满足折射原理，+1级衍射光线在双焦波带片（5）相位函数的调控下实现汇聚在待测平面掩膜（6），携带待测平面掩膜（6）表面面型相位信息的光反射形成返回光路，再次经过双焦波带片（5），入射到半透半反分光镜（4），经半透半反分光镜（4）反射到CCD探测器（7）形成干涉图像。

2.根据权利要求1所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：双焦波带片（5）为透光材料，在其顶面设有若干条相互平行的凹槽。

3.根据权利要求2所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：上述透光材料为熔融石英。

4.根据权利要求1或2所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：上述双焦波带片（5）带有凹槽的面，与待测平面掩膜（6）相对。

5.根据权利要求1所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：半透半反分光镜（4）与其所在光轴的夹角α范围为0﹤α﹤90°。

6.根据权利要求1所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：所述的双焦波带片（5）融合了两种频率成分的位相型透射式的计算全息图。

7.根据权利要求1所述的双焦波带片干涉显微检测平面掩膜缺陷的装置，其特征在于：双焦波带片（5）是与动态移相相结合，按照一定规律微小移动的平台连接一起，这样能准确反映被测件的表面信息。