[发明专利]一种可调控光衰减机械装置

说明书

技术领域

本发明涉及光学光衰减装置领域，特别提供了一种可调控光衰减机械装置。

背景技术

目前，光衰减器包括可旋转可变透射率的衰减元件，衰减一般都是通过在入射光路中放置元件，使具有不同透射率的预定元件部分面向入射光束而得到，但是在一个微电机械系统环境中，旋转阻隔片的应用不是很现实，线性可动阻隔片是更普遍的选择，这种状况下，使用吸收或是反射阻隔片在衰减量高于一定标准后会产生很高的偏振相关损耗，产生这一损耗是因为吸收和反射材料响应入射光会出现传导电流，并且阻隔片的形状会使平行于阻隔片方向的电流高于垂直于阻隔片方向的电流。

发明内容

本发明的目的是为了解决已有的技术上的问题，特提供了一种可调控光衰减机械装置。

本发明提供了一种可调控光衰减机械装置，其特征在于：所述的可调控光衰减机械装置包括作业平台（1）、光纤组（2）、隔热片（3）、传动机构（4）、光学阻隔片（5）；

其中：光衰减装置是用来将沿着光轴从光纤组（2）一端传播到另一端的光速衰减，光纤组（2）端头之间设置有阻隔片，装置成中心对称，中间设置一组光纤组（2），光纤组（2）两端依次设置有隔热片（3）和光学阻隔片（5）及传动机构（4）。

所述的传动机构（4）用以驱动光学元件，以阻隔片中进入或退出光束。

所述的光纤组（2），光学阻隔片（5）等光学元件由硅做成，还有抗反射涂层。

本发明的优点：

本发明所述的可调控光衰减机械装置，衰减效果好，保证反射率低，硅做材质感应电流低，结构简单，成本降低。

附图说明

下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1为  本发明的原理示意图 。

具体实施方式

实施例

本实施例提供了一种可调控光衰减机械装置，其特征在于：所述的可调控光衰减机械装置包括作业平台（1）、光纤组（2）、隔热片（3）、传动机构（4）、光学阻隔片（5）；

其中：光衰减装置是用来将沿着光轴从光纤组（2）一端传播到另一端的光速衰减，光纤组（2）端头之间设置有阻隔片，装置成中心对称，中间设置一组光纤组（2），光纤组（2）两端依次设置有隔热片（3）和光学阻隔片（5）及传动机构（4）。

所述的传动机构（4）用以驱动光学元件，以阻隔片中进入或退出光束。

所述的光纤组（2），光学阻隔片（5）等光学元件由硅做成，还有抗反射涂层。