[发明专利]有机发光显示设备的制造方法

权利要求书

1.一种制造有机发光显示设备的方法，所述方法包括：

在被限定在基板中的每个子像素区上形成薄膜晶体管；

在具有薄膜晶体管形成于其上的基板上形成钝化层；

在钝化层的每个子像素区中形成有机发光二级管的第一电极；

在钝化层的子像素区的边界中形成堤岸图案；

在堤岸图案上形成暴露第一子像素区的光致抗蚀剂图案；

通过在具有光致抗蚀剂图案的基板的整个表面上沉积有机材料，在第一子像素区内的第一电极上形成有机发光层和在光致抗蚀剂图案上形成有机材料图案；和

使用分离膜去除光致抗蚀剂图案和有机材料图案，

其中所述分离膜包括聚合物粘土，被设置在有机材料图案上，并形成为包围有机材料图案和光致抗蚀剂图案的侧表面。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述分离膜还包括弹性体。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述分离膜还包括增粘剂。

4.如权利要求1所述的方法，其中所述聚合物粘土包括发泡剂。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述聚合物粘土包括邻苯二甲酸基添加剂。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述分离膜包括支撑层和粘着层。

7.如权利要求6所述的方法，其中所述分离膜的粘着层在17％～85％的范围内硬化。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述分离膜的厚度形成在2μm～200μm范围内。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述分离膜缠绕在分离辊周围，所述光致抗蚀剂图案和有机材料图案的分离包括：

设置缠绕有分离膜的分离辊；

使分离膜与有机材料图案的上表面以及有机材料图案和光致抗蚀剂图案的侧表面接触；和

通过旋转分离辊去除光致抗蚀剂图案和有机材料图案。

10.如权利要求1所述的方法，还包括在使用分离膜去除光致抗蚀剂图案和有机材料图案之前，通过照射紫外线到光致抗蚀剂图案来硬化光致抗蚀剂图案。

11.如权利要求1所述的方法，其中形成所述光致抗蚀剂图案包括：

将第一光致抗蚀剂膜层叠在堤岸图案上；和

照射激光到除了第一子像素区之外的光致抗蚀剂膜的其余区域；和

除了光致抗蚀剂图案之外，自堤岸图案去除第一光致抗蚀剂膜。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述第一光致抗蚀剂膜包括：

与堤岸图案接触的光致抗蚀剂组合物层；

形成在光致抗蚀剂组合物层上的光膨胀层；和

形成在光膨胀层上的支撑层。