[发明专利]用于在衬底上安装半导体芯片的热压结合方法及装置无效
申请号: | 201310712832.1 | 申请日: | 2013-12-20 |
公开(公告)号: | CN103887192A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 翰尼斯·科斯特纳 | 申请(专利权)人: | 贝思瑞士股份公司 |
主分类号: | H01L21/603 | 分类号: | H01L21/603 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 梁晓广;关兆辉 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 衬底 安装 半导体 芯片 热压 结合 方法 装置 | ||
1.一种用于在衬底(4)的表面上安装半导体芯片(5)的热压结合方法,其中半导体芯片(5)一个接一个地被芯片夹持器(8)拾起并被安装在所述衬底(4)上,其中TC结合头(2)能够利用驱动器(6)在与所述衬底(4)的表面垂直地延伸的Z方向上移位,所述芯片夹持器(8)能够在所述Z方向上移位地安装在所述TC结合头(2)上,并且固定到所述TC结合头(2)的力传递器(12)被构造成在所述TC结合头(2)的挡块(11)的方向上按压所述芯片夹持器(8)的延伸部(10),并且其中所述芯片夹持器(8)包括加热器(13),其中执行下列步骤以在半导体芯片(5)和衬底(4)之间产生焊点(14)形式的牢固的焊接连接部:
用所述芯片夹持器(8)拾取半导体芯片(5);
将所述芯片夹持器(8)定位在指定的衬底位置(4)上方;
利用所述驱动器(6)使所述TC结合头(2)降低到Z位置,在该Z位置中,所述芯片夹持器(8)相对于所述TC结合头(2)偏离预定距离DS,使得所述芯片夹持器(8)的延伸部(10)不支承在所述TC结合头(2)的挡块(11)上;
利用所述加热器(13)加热所述半导体芯片(5);
在所述半导体芯片(5)已经达到所述焊点(14)的焊料的熔化温度之上的温度,使得所述焊点(14)熔化且所述芯片夹持器(8)的延伸部(10)支承在所述TC结合头(2)的挡块(11)上时,立即终止对所述半导体芯片(5)的加热;
等待,直到所述半导体芯片(5)的温度的值已经下降到焊料的熔化温度以下;以及
提升所述TC结合头(2)。
2.根据权利要求1所述的热压结合方法,还包括:在所述等待期间,对所述芯片夹持器(8)进行主动冷却。
3.根据权利要求1或2所述的热压结合方法,还包括:
从对所述半导体芯片(5)的加热开始直到所述芯片夹持器(8)的温度已经达到比焊料的熔化温度低的预定值的时间点期间,测量所述芯片夹持器(8)相对于所述TC结合头(2)的实际偏离D,并将测量的所述偏离D用于对所述TC结合头(2)的所述Z位置的闭环控制,以使所述芯片夹持器(8)保持被偏离所述预定距离DS。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的热压结合方法,其中使所述TC结合头(2)降低的步骤包括:
确定支承衬底的支座(3)与所述TC结合头(2)在所述芯片夹持器(8)施加的力的作用下相对于彼此移位的距离DTS,并使所述距离DS减少距离DTS。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的热压结合方法,其中使所述TC结合头(2)降低的步骤包括:
确定支承衬底(4)的支座(3)与所述TC结合头(2)在所述芯片夹持器(8)施加的力的作用下相对于彼此移位的距离DTS,并且在焊料开始熔化时,立即将所述TC结合头(2)提升所述距离DTS。
6.一种用于在衬底(4)的表面上安装半导体芯片的装置,所述装置包括:
TC结合头(2),所述TC结合头(2)以在与所述衬底(4)的表面垂直地延伸的Z方向上可移位的方式安装,并且包括挡块(11);
芯片夹持器(8),所述芯片夹持器(8)以在所述Z方向上可移位的方式安装在所述TC结合头(2)上,并包括延伸部(10);
力传递器(12),所述力传递器(12)固定到所述TC结合头(2),并且所述力传递器(12)使所述芯片夹持器(8)的延伸部(10)在所述Z方向上压靠所述TC结合头(2)的挡块(11);
驱动器(6),所述驱动器(6)用于使所述TC结合头(2)在所述Z方向上移动;
第一位置测量元件(7),所述第一位置测量元件(7)用于检测所述TC结合头(2)的Z位置;
第二位置测量元件(9),所述第二位置测量元件(9)用于检测所述芯片夹持器(8)相对于所述TC结合头(2)的偏离;以及
闭环控制装置(15),所述闭环控制装置(15)用于控制所述驱动器(6),其中所述控制装置(15)设定成基于由所述第一位置测量元件(7)或所述第二位置测量元件(9)提供的位置信号选择性地控制所述驱动器(6)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造