[发明专利]调光玻璃用薄膜材料及其制备方法在审
申请号: | 201310713798.X | 申请日: | 2013-12-20 |
公开(公告)号: | CN104724951A | 公开(公告)日: | 2015-06-24 |
发明(设计)人: | 包山虎;郭雨;金平实;郑建云;曹逊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
主分类号: | C03C17/42 | 分类号: | C03C17/42 |
代理公司: | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人: | 刘秋兰 |
地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调光 玻璃 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该薄膜材料包括一镁合金层、一沉积于镁合金层上的催化层及一形成在催化层上的保护层。
2.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该镁合金层为MgxM,其中,M为Ni时,x=2.81;M为Y时,x=46.45;M为Nb时,x=13.24;M为Ti时,x=46.09。
3.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该镁合金层的厚度为40nm;所述催化层为Pd,厚度为5nm;所述保护层的厚度为500nm。
4.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,所述保护层为对氢气具有扩散特性而对水具有非扩散特性的高分子材料。
5.如权利要求4所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,所述高分子材料为聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯或醋酸纤维素。
6.一种制备权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料的方法,其特征在于,该方法依次包括如下步骤:
首先,采用磁控溅射法将Mg和M共溅射沉积至基片上形成镁合金层,其中,M为Ni、Y、Nb或Ti;
紧接着,继续采用磁控溅射法将Pd溅射至镁合金层上形成催化层;
最后,采用旋涂法将高分子材料涂至催化层上形成保护层,最终形成调光玻璃用薄膜材料。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述镁合金层为MgxM,厚度为40nm,其中,M为Ni时,x=2.81;M为Y时,x=46.45;M为Nb时,x=13.24;M为Ti时,x=46.09;所述催化层的厚度为5nm;所述保护层的厚度为500nm。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述高分子材料为聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯或醋酸纤维素。
9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述基片为玻璃基片或者硅片。
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