[发明专利]调光玻璃用薄膜材料及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310713798.X 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN104724951A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 包山虎;郭雨;金平实;郑建云;曹逊 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C03C17/42 分类号: C03C17/42
代理公司: 上海唯源专利代理有限公司 31229 代理人: 刘秋兰
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 调光 玻璃 薄膜 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该薄膜材料包括一镁合金层、一沉积于镁合金层上的催化层及一形成在催化层上的保护层。

2.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该镁合金层为MgxM,其中,M为Ni时,x=2.81;M为Y时,x=46.45;M为Nb时,x=13.24;M为Ti时,x=46.09。

3.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,该镁合金层的厚度为40nm;所述催化层为Pd,厚度为5nm;所述保护层的厚度为500nm。

4.如权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,所述保护层为对氢气具有扩散特性而对水具有非扩散特性的高分子材料。

5.如权利要求4所述的调光玻璃用薄膜材料,其特征在于,所述高分子材料为聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯或醋酸纤维素。

6.一种制备权利要求1所述的调光玻璃用薄膜材料的方法,其特征在于,该方法依次包括如下步骤:

首先,采用磁控溅射法将Mg和M共溅射沉积至基片上形成镁合金层,其中,M为Ni、Y、Nb或Ti;

紧接着,继续采用磁控溅射法将Pd溅射至镁合金层上形成催化层;

最后,采用旋涂法将高分子材料涂至催化层上形成保护层,最终形成调光玻璃用薄膜材料。

7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述镁合金层为MgxM,厚度为40nm,其中,M为Ni时,x=2.81;M为Y时,x=46.45;M为Nb时,x=13.24;M为Ti时,x=46.09;所述催化层的厚度为5nm;所述保护层的厚度为500nm。

8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述高分子材料为聚氯乙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯或醋酸纤维素。

9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述基片为玻璃基片或者硅片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海硅酸盐研究所;,未经中国科学院上海硅酸盐研究所;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310713798.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top