[发明专利]旋转盘高温靶室系统

权利要求书

1.旋转盘高温靶室系统，有靶腔盖（7）和靶腔（5），该靶腔盖（7）和靶腔（5）形成与离子束通道连通的密闭工艺腔；所述靶腔盖（7）上装有位于密闭工艺腔内的靶盘（1）；其特征在于，所述靶盘（1）上装有至少一个可相对靶腔（5）转动的高温基座（3），每个高温基座（3）内装有加热装置，每个加热装置外侧设有用于固定硅片（19）的高温片托（6）。

2.根据权利要求1所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述靶盘（1）上安装有至少一个可相对靶腔（5）转动的常温基座（4）。

3.根据权利要求1所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述靶盘（1）与一驱动其转动的转动机构（2）相连。

4. 根据权利要求1所述的旋转盘高温靶室系统，其特征是，所述靶盘（1）通过转动机构（2）将装夹好的硅片（19）转动到注入位置进行注入工艺，但在注入工艺过程中靶盘（1）不转动。

5.根据权利要求1所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述高温基座（3）包括底座（15）和装在底座（15）上的冷却罩（11），所述冷却罩（11）上装有绝热座（13），所述加热装置位于底座（15）和冷却罩（11）之间；所述高温基座（3）上装有检测高温片托（6）温度的热电偶（14）。

6.根据权利要求1所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述高温片托（6）上装有固定硅片（19）的弹片（17）。

7.根据权利要求1或5所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述加热装置为设置在高温基座（3）内的红外灯管（12）。

8.根据权利要求4所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述高温基座（3）的冷却罩（11）及底座（15）内设有冷却通道。

9.根据权利要求1~6之一所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述靶腔（5）上装有真空泵组件（10），该真空泵组件（10）用于对靶腔盖（7）和靶腔（5）形成的密闭工艺腔抽真空。

10.根据权利要求1~6之一所述的旋转盘高温靶室系统，其特征在于，所述靶腔盖（7）上开有观察窗（9），该观察窗（9）内侧设有装在靶盘（1）上的挡束网（8）。