[发明专利]一种远区等离子体喷枪装置无效

专利信息
申请号: 201310720521.X 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN103747607A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 王红卫;沈文凯 申请(专利权)人: 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司
主分类号: H05H1/26 分类号: H05H1/26
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 孟宏伟
地址: 215011 江苏省苏州市苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 喷枪 装置
【说明书】:

技术领域

发明属于等离子体处理装置,具体涉及一种远区等离子体喷枪装置。

背景技术

材料表面改性处理技术是当前普遍使用的材料制备技术之一,它是在一定的外界条件下,材料外部物质和材料表面发生物理或化学反应,从而使材料表面状态发生变化或在材料表面产生新的元素和新的基团,最终满足实际应用的需要。

但是,现代工业的迅猛发展对材料耐磨擦、磨损和抗腐蚀等性能提出了更高的要求,与此同时,对环保的要求也越来越高,从而有力地推动被称为绿色生产工艺的材料等离子表面改性技术的不断发展。在真空下,给反应气体环境施加高频电场,气体在高频电场的激励下电离产生等离子体。并且有些物料(如导电物料)不能放在放点区域内进行等离子体处理。

因此亟需一种放电面积大,放电均匀的远区等离子体产生装置。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题,提供一种远区等离子体喷枪装置。

本发明所采用的技术方案是:一种远区等离子体喷枪装置,包括绝缘空心套管、上述绝缘空心套管内部设有至少两个平行设置的中空槽体,上述每个中空槽体内设有等离子体喷枪,上述每个等离子体喷枪之间设有绝缘体,上述中空槽体的长度小于所述绝缘空心套管使得形成等离子体放电区。

优选的,上述中空槽体的边缘为所述等离子体喷枪的阳极,上述等离子体喷枪中的阴极为金属针电极。

优选的,上述绝缘空心套管为含氟聚合物套管。

优选的,上述绝缘空心套管为圆柱形空心套管。

优选的,上述绝缘空心套管为矩形空心套管。

优选的,上述绝缘空心套管为三角形空心套管。

优选的,上述等离子体喷枪对称均匀设置在所述绝缘空心套管内。

优选的,上述绝缘空心套管为圆柱型空心套管上端还设有用于固定所述等离子体喷枪和绝缘体的固定装置。

优选的,上述固定装置为绝缘固定装置。

优选的,还包括用于固定所述等离子体喷枪的上端盖,所述上端盖上对应每个等离子体喷枪都开设有通气孔。

采用本技术方案的有益效果是:一种远区等离子体喷枪装置,包括绝缘空心套管、至少两个均匀设置的等离子体喷枪,等离子体喷枪之间设有绝缘体,等离子体喷枪和绝缘体的长度小于绝缘空心套管使得形成等离子体放电区,在一个绝缘空心套管中设有多个等离子体喷枪,能较大面积进行气体放电产生等离子体,多个等离子体喷枪均匀分布设置,能使放电区产生全面且均匀的等离子体,在普通的大气环境下也能工作,本装置使得待处理物料在远区也能被更好地处理材料,使得材料表面改性处理效果较好。

附图说明

为了使本发明的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中:

图1是本发明实施例1的剖面结构示意图;

图2是本发明实施例2的横切面结构示意图;

图3是本发明实施例3的横切面结构示意图;

图4是本发明实施例4的横切面结构示意图;

图5是本发明实施例5的横切面结构示意图;

图中,1.金属针电极 2.绝缘体 3.绝缘空心套管 4.等离子体放电区 5.被处理板材 6.中空槽体 7.绝缘端盖 8.上端盖。

具体实施方式

下面结合附图详细说明本发明的具体实施例。

实施例1

如图1所示,包括绝缘套管、绝缘套管内部设有两个平行设置的中空槽体6,还设有绝缘端盖7,两个平行的中空槽体6均匀分布在绝缘空心套管3的内部,绝缘空心套管3为含氟聚合物管,含氟聚合物管3为圆柱形,每个中空槽体内设有等离子体喷枪,等离子体的末端固定在绝缘端盖7中,其中,中空槽体6的中空槽体边壁为等离子体喷枪的阳极,等离子体喷枪中的阴极为金属针电极1,每个等离子体喷枪之间设有绝缘体2,中空槽体的长度小于含氟聚合物套管3使得形成等离子体放电区4。

绝缘空心套管为圆柱型空心套管,上端还包括用于固定等离子体喷枪的上端盖8,上端盖8采用绝缘材料,上端盖8上对应每个等离子体喷枪都开设有一个通气孔。

工作时,两个平行设置的等离子体喷枪同时工作,气体从上端分别进入等离子喷枪,每个等离子体喷枪之间设有绝缘体,所以等离子放电区集中在等离子体喷枪的喷嘴处,在放电区集中放电产生等离子体。待处理物料安排在放点区域以外的区域进行等离子体处理。

实施例2

如图2所示,其余与实施例1相同,不同之处在于,在缘套管内部设有五个平行设置的中空槽体,中空槽体在绝缘套管围成的圆柱形中均匀分布。

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