[发明专利]一种高纯度球形SiO2纳米粉制作工艺

权利要求书

1.一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：

A、备料；

B、融料；

C、高压吹氧；

D、产物收集；

E、二次反应；

F、产品收集；

G、产品提纯。

2.根据权利要求1所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，步骤A中所述的材料为金属硅。

3.根据权利要求2所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，步骤B中融料的温度为1500℃左右，在加热过程中使得提纯后得到的纯金属硅成为液态硅。

4.根据权利要求3所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，步骤C中向液态硅中吹入高压氧气，氧气与液态硅反应，放热并将液态金属雾化成为SiO₂、SiO以及Si的混合物。

5.根据权利要求4所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，步骤D中采用微孔陶瓷过滤器对雾化的SiO₂、SiO以及Si的混合物进行收集。

6.根据权利要求5所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，步骤E中将SiO₂、SiO以及Si的混合物加热到1200℃左右，并继续向其通入高压氧气，使其进行表面扩散与气固反应，直至混合物全部氧化为SiO₂。

7.根据权利要求6所述的一种高纯度球形SiO₂纳米粉制作工艺，其特征在于，通过步骤F先对产品进行收集，在产品收集完成后再对纯度较低的产品进行步骤G的提纯处理。