[发明专利]铸锭炉在审

专利信息
申请号: 201310722644.7 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN103668452A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 刘磊;高文宽;胡志岩;李高非 申请(专利权)人: 英利集团有限公司
主分类号: C30B28/06 分类号: C30B28/06;C30B29/06
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 071051 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 铸锭
【说明书】:

技术领域

发明涉及太阳能电池硅片加工领域,更具体地,涉及一种铸锭炉。

背景技术

铸锭过程中首先将硅块放入二氧化硅材料的坩埚中,然后放入以石墨材料为电阻的加热装置中,慢慢将大量形状不一的硅块全部熔化为硅液,通过定向凝固,形成一个整体的硅块。常规加热器是固定在坩埚四周,常常由于总是加热坩埚局部位置,导致坩埚局部温度过高,导致坩埚涂层脱落,甚至由于温度差太大,导致坩埚断裂,进而漏硅,导致炉体爆炸。

随着铸锭技术的不断发展,铸锭炉的容量由起初的450kg升级到800kg,目前又从800kg升级到1200kg,随着铸锭技术的不断发展,对铸锭的质量要求越来越高,传统的固定式加热方式,已经无法保证目前大尺寸硅锭生长界面的平坦度,导致分凝不均匀。

发明内容

本发明旨在提供一种铸锭炉,以提高铸锭的质量。

为了实现上述目的,本发明提供了一种铸锭炉,铸锭炉包括:坩埚;加热装置,加热装置相对于坩埚可移动地设置。

进一步地,加热装置相对于坩埚至少沿竖直方向可移动地设置。

进一步地,加热装置包括:多个加热电极;移动板,多个加热电极均与移动板固定连接,移动板相对于坩埚可移动地设置。

进一步地,多个加热电极沿与坩埚同轴的圆均匀地设置。。

进一步地,加热装置还包括用于驱动加热装置相对于坩埚沿竖直方向移动的驱动装置。

进一步地,驱动装置包括伺服电机。

进一步地,加热装置还包括传动单元,传动单元包括:丝杠,丝杠与伺服电机传动连接;滑块,滑块与丝杠相适配并与移动板固定连接。

进一步地,加热装置包括多个伺服电机和与多个伺服电机一一对应地设置的多个传动单元。

进一步地,多个传动单元沿与坩埚同轴的圆均匀地设置。

应用本发明的技术方案,铸锭炉包括坩埚和加热装置,加热装置相对于坩埚可移动地设置。应用本发明的技术方案,可给坩埚任何位置加热,使坩埚整体温度更为均匀,结晶的界面更为平坦,更有利于杂质的分凝,大大提升硅锭质量。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:

图1示出了本发明实施例的铸锭炉的结构示意图;

图2示出了本发明实施例的铸锭炉的加热装置的结构示意图。

附图标记:2、加热装置;21、加热电极;22、移动板;23、伺服电机。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。

如图1和2所示,本实施例的铸锭炉包括坩埚和加热装置。加热装置2相对于坩埚可移动地设置。

本实施例的铸锭炉实现了加热装置的移动。可对坩埚任何位置加热,使坩埚整体温度更为均匀,结晶的界面更为平坦,更有利于杂质的分凝,大大提升硅锭质量,降低生产风险。

加热装置相对于坩埚至少沿竖直方向可移动地设置。有利用控制晶粒沿竖方向生长的状况。

加热装置包括多个加热电极21和移动板22。多个加热电极均与移动板22固定连接,移动板相对于坩埚可移动地设置。移动板22相对于坩埚沿竖直方向移动的过程中,带动加热电极移动。实现了对坩埚加热的加热装置的可移动设置。

多个加热电极21沿与坩埚同轴的圆均匀地设置。用于加热坩埚内的硅料的多个加热电极沿轴向均匀地设置。有利于提高坩埚内硅料的温度的分布的均匀性。进一步地,使得硅料结晶的界面更为平坦,大大提升硅锭质量,降低生产风险。

加热装置还包括用于驱动加热装置2相对于坩埚沿竖直方向移动的驱动装置。驱动装置包括伺服电机23。

伺服电机可实现对速度和位移的高精度控制。有利于进一步地提高硅锭质量。

加热装置还包括传动单元,传动单元包括丝杠和滑块。丝杠与伺服电机23传动连接。滑块与丝杠相适配并与移动板22固定连接。

丝杠沿竖直方向设置,丝杠的转动驱动滑块沿丝杠的延伸方向移动。丝杠与伺服电机传动连接。滑块与移动板22固定连接。控制伺服电机的转动,可以实现对加热装置的控制。

加热装置包括多个伺服电机23和与多个伺服电机23一一对应地设置的多个传动单元。多个传动单元沿与坩埚同轴的圆均匀地设置。提高了加热装置移动的稳定性,有利于进一步提高铸锭的质量。

以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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