[发明专利]掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池在审
申请号: | 201310723503.7 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN103681887A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 杨志;黄达;耿会娟;王英;张亚非 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/068 |
代理公司: | 上海旭诚知识产权代理有限公司 31220 | 代理人: | 郑立 |
地址: | 200240 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 掺杂 zno 纳米 透明 导电 结构 太阳电池 | ||
1.一种掺杂ZnO纳米线透明导电陷光结构的硅太阳电池,其特征在于,所述硅太阳电池包括由下而上依次逐层连接的背电极、p型硅衬底、n型层、减反射层和前电极;在所述n型层和所述减反射层之间分布有掺杂ZnO纳米线。
2.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂ZnO纳米线为掺杂铝或硼的ZnO纳米线。
3.根据权利要求1或2中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂ZnO纳米线通过碳热还原法制备。
4.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂ZnO纳米线的直径在10-100纳米之间。
5.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂ZnO纳米线的单根长度大于1000纳米。
6.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述掺杂ZnO纳米线的分布密度为1-10万根/平方毫米。
7.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述背电极为铝制电极。
8.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述减反射层为氮化硅或者二氧化硅。
9.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述前电极为银栅电极。
10.根据权利要求1中所述的硅太阳电池,其特征在于,所述硅太阳电池是单晶硅太阳电池或多晶硅太阳电池。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的