[发明专利]一种可见光高透过率的光响应纳米结构薄膜及其应用

权利要求书

1.一种可见光高透过率的光响应纳米结构薄膜，其特征在于其制备方法包括如下步骤：

（1）光响应纳米颗粒均匀分散于水中形成质量分数为10~20%的纳米颗粒分散液；将所述纳米颗粒分散液与醇和有机溶剂按：0.02~0.06:6~9:1~3的比例配成前驱体溶液；

（2）将所述前驱体溶液按20~52μL/cm²的浓度均匀滴加到聚苯乙烯培养器皿上，然后在40~90℃的温度下干燥，干燥后即可获得晶粒尺寸为10~30nm，厚度为20nm～100nm，可见光透过率为89%~98%的光响应纳米结构薄膜。

2.根据权利要求1所述的光响应纳米结构薄膜，其特征在于：所述光响应纳米颗粒为纳米氧化钛、纳米氧化锌、纳米氮化镓、纳米氧化锆或纳米氧化铁。

3.根据权利要求1所述的光响应纳米结构薄膜，其特征在于：所述醇为甲醇、乙醇、丙醇或丁醇。

4.根据权利要求1所述的光响应纳米结构薄膜，其特征在于：所述有机溶剂是四氢呋喃、三氯甲烷或二氯甲烷。

5.一种利用权利要求1所述的光响应纳米结构薄膜制成的细胞培养器皿。

6.一种权利要求1所述的光响应纳米结构薄膜在细胞培养方面的应用，其特征在于：将所述的光响应纳米结构薄膜置于细胞培养器皿与细胞接触的表面上，在光响应纳米结构薄膜上进行体外细胞培养；在体外细胞培养完成后，通过紫外光或可见光照射处理使生长于所述光响应纳米结构薄膜表面的细胞从所述细胞培养器皿上脱附下来。

7.根据权利要求6所述的应用，其特征在于：光照射处理采用的光波长为360~450nm。

8.根据权利要求6或7所述的应用，其特征在于：光照射处理的照射时间为10~30分钟。