[发明专利]纳米多层复合膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201310728915.X | 申请日： | 2013-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN103668062A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 吴日芳;江延军;王峰;高鹏万 | 申请（专利权）人： | 大连远东工具有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/32 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人： | 贾汉生;李馨 |
| 地址： | 116113 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 纳米 多层 复合 及其 制备 方法 | ||
1.一种纳米多层复合膜，其特征在于，包括顺次设置的Ti层、复合层和TiN表层，所述复合层包括交替设置Ti2N+TiN层和TiN层。
2.根据权利要求1所述纳米多层复合膜，其特征在于，所述Ti层厚度为50-70nm。
3.根据权利要求1所述纳米多层复合膜，其特征在于，所述Ti2N+TiN层厚度为28-60nm；所述TiN层厚度为35-70nm。
4.根据权利要求1所述纳米多层复合膜，其特征在于，所述TiN表层的厚度为0.8-1.5μm。
5.根据权利要求1所述纳米多层复合膜，其特征在于，所述纳米多层复合膜厚度为2-5μm。
6.一种权利要求1-5任意一项所述纳米多层复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：首先在基体表面沉积Ti层；然后在Ti层背离基体的一侧沉积复合层；最后在复合层上沉积TiN表层；
其中，所述复合层通过交替沉积Ti2N+TiN层和TiN层制备而成。
7.根据权利要求6所述纳米多层复合膜的制备方法，其特征在于，所述沉积采用多弧离子镀技术完成。
8.根据权利要求6所述纳米多层复合膜的制备方法，其特征在于，所述Ti2N+TiN层的制备包括，Ti靶材和氮气分别离化，采用多弧离子镀技术在Ti层上通过脉冲Ar气将Ti2N和TiN混合沉积。
9.根据权利要求6所述纳米多层复合膜的制备方法，其特征在于，所述纳米多层复合膜的制备通过压强仪控制气体压强，气分压为6-8×10-1Pa。
10.根据权利要求6所述纳米多层复合膜的制备方法，其特征在于，所述基体为金属基体，所述基体的温度为340-380℃。
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