[发明专利]感光性聚硅氧烷组成物、保护膜及具有保护膜的元件

说明书

技术领域

本发明涉及一种感光性聚硅氧烷组成物，特别是指一种包含聚硅氧烷高分子及每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物的正型感光性聚硅氧烷组成物、由此感光性聚硅氧烷组成物所形成的保护膜，及具有该保护膜的元件。

背景技术

近年来，在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中，随着尺寸的日益缩小化，对于光刻制程中所需的图案的微细化更甚要求。为了达到微细化的图案，一般是通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影后而形成，其中，以聚硅氧烷高分子为成分的正型感光性材料逐渐成为业界使用的主流。

日本特开2008-107529号公开一种形成硬化膜用的感光性树脂组成物。该组成物包含聚硅氧烷高分子、邻萘醌二叠氮磺酸酯及溶剂。其中，该聚硅氧烷高分子的特征是含环氧丙烷基或丁二酸酐基，其制法是由含环氧丙烷基(oxetanyl)或丁二酸酐基的硅氧烷单体经加水分解且部分缩合所获得。该聚硅氧烷于共聚合时会经开环反应形成亲水性的结构，并在稀薄碱性显影液中具有高溶解性，然而，该感光性树脂组成物的感度不佳，难以令业界接受。

由上述可知，目前仍有需要发展出一种正型感光性聚硅氧烷组成物，且由该组成物所形成的保护膜具有良好感度，以满足业界的需求。

发明内容

首先要说明的是，在本文中，该(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸；(甲基)丙烯酰[(meth)acryloyl]表示丙烯酰(acryloyl)和/或甲基丙烯酰(methacryloyl)；(甲基)丙烯酸酯[(meth)acrylate]表示丙烯酸酯(acrylate)和/或甲基丙烯酸酯(methacrylate)。

本发明的第一目的，在于提供一种具有高感度的感光性聚硅氧烷组成物。

于是，本发明感光性聚硅氧烷组成物，包含聚硅氧烷高分子(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶剂(D)。

本发明感光性聚硅氧烷组成物，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有七个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。

本发明感光性聚硅氧烷组成物，所述氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)是每分子具有至少含有八个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物。

本发明感光性聚硅氧烷组成物，基于所述聚硅氧烷高分子(A)的总量为100重量份，所述邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的含量为1至50重量份、所述每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的含量为0.1至35重量份，及所述溶剂(D)的含量为50至1200重量份。

本发明感光性聚硅氧烷组成物，所述聚硅氧烷高分子(A)，是由具有式(I)的硅烷单体经加水分解及部分缩合而得的共聚物；

Si(R^a)_t(OR^b)_4-t (I)

其中，t为0至3的整数，且当t表示2或3时，多个R^a各自为相同或不同；

R^a表示氢、C₁至C₁₀的烷基、C₂至C₁₀的烯基、C₆至C₁₅的芳香基、经酸酐基取代的C₁至C₁₀烷基、经环氧基取代的C₁至C₁₀烷基，或经环氧基取代的烷氧基；

R^b表示氢、C₁至C₆的烷基、C₁至C₆的酰基，或C₆至C₁₅的芳香基，且当4-t表示2或3时，多个R^b各自为相同或不同。

本发明的第二目的，在于提供一种感度良好的保护膜。

于是，本发明保护膜，是将如前所述的感光性树脂组成物涂布于基材上，再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。

本发明的第三目的，在于提供一种具有保护膜的元件。

本发明具有保护膜的元件，包含基材以及形成于该基材上的如上所述的保护膜。