[发明专利]电磁整烫结构有效

专利信息
申请号: 201310738126.4 申请日: 2013-12-27
公开(公告)号: CN103726282A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 章正忠 申请(专利权)人: 吴江市振中纺织品有限公司
主分类号: D06F69/00 分类号: D06F69/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 连围
地址: 215228 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电磁 结构
【说明书】:

所属技术领域

发明涉及纺织整烫设备领域,特别地,是一种电磁波进行整烫的结构。

背景技术

整烫是服装缝制工艺的一个重要工序,熨烫质量的好坏直接影响到成品的质量。熨烫主要有三个作用:1、通过喷雾、熨烫使衣料缩水。以至去掉皱痕。2、经过热定型处理使服装外形平整,褶裥、线条笔挺。3、利用纤维的可缩性,适当改变纤维的张缩度与织物经纬组织的密度和方向,塑造服装的立体造型,以适应人体体型与活动的要求,达到立体造型优美、穿着舒适的目的。

整烫的整个过程,就是是蒸汽大量产生和凝结的过程,服装的整烫因为数量较大,因此需要一个供应大量蒸汽的设备,一般采用锅炉制造蒸汽,蒸汽经过管道运输最后供应至整烫设备,这个运输过程会造成热量的散失,同时整烫作业时,整烫设备的蒸汽喷口往往距离加工的织物还有一段距离,也会造成蒸汽热量的散失,因此,常用的整烫设备都存在较大的热量损耗。

发明内容

为了解决上述问题,本发明的目的在于提供一种电磁整烫结构,该电磁整烫结构能够使蒸汽贴近整烫织物时才产生。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:

该电磁整烫结构包括水平设置的成型上盖和成型下盖,成型上盖和成型下盖之间传输有需整烫的织物,所述成型上盖或者成型下盖的盖体内设置有电磁铁、均匀设置的雾化喷口、电磁线圈和水平均布等质量的铁粉。

作为优选,所述电磁铁与所述电磁线圈分别设置于所述成型上盖或者成型下盖内。

作为优选,所述铁粉设置在所述成型下盖内。

作为优选,设置铁粉的所述成型上盖或者成型下盖的盖口设置监测铁粉是否溢出的探头。

作为优选,所述探头为相对设置的光学接收头和光学发射头。

作为优选,设置铁粉的所述成型上盖或者成型下盖的盖沿设置有一圈与所述铁粉磁性相斥的磁体。

本发明的优点在于:

铁粉被所述电磁铁吸引后水平悬浮成一层,所述电磁线圈产生的高频变化的交变磁场使所述铁粉内产生涡流,铁粉被加热,所述雾化喷口喷出的雾化水汽经过所述被加热的铁粉后即产生蒸汽,由于蒸汽是在离织物很近的位置才产生的,因此蒸汽因搬运而损失的热量很少,有效提高能源的利用率。

附图说明

图1是本电磁整烫结构的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明:

参阅图1,在本实施例中,该电磁整烫结构包括水平设置的成型上盖100和成型下盖200,成型上盖100和成型下盖200之间传输有需整烫的织物10,所述成型上盖100或者成型下盖200的盖体内设置有电磁铁110、均匀设置的雾化喷口220、电磁线圈210和水平均布等质量的铁粉400。

所述电磁线圈210产生的高频变化的交变磁场原理与电磁炉一致,能够加热铁粉。

上述的电磁整烫结构,所述电磁铁110与所述电磁线圈210分别设置于所述成型上盖100和成型下盖200内,防止所述电磁线圈210产生的高频变化的交变磁场影响结构相似的所述电磁铁110,使交变磁场被所述铁粉400吸收后不再影响所述电磁铁110。

上述的电磁整烫结构,所述铁粉400设置在所述成型下盖200内,使所述电磁铁110在不工作状态下,铁粉能够不经过所述织物10沉淀于所述成型下盖200内。

上述的电磁整烫结构,设置铁粉400的成型下盖200的盖口设置监测铁粉是否溢出的探头300,铁粉400溢出时能够及时调整所述电磁铁110对所述铁粉400的吸引力,防止铁粉400溢出或者接触织物10。

上述的电磁整烫结构,所述探头300为相对设置的光学接收头和光学发射头。

上述的电磁整烫结构,设置铁粉400的所述成型上盖100或者成型下盖200的盖沿设置有一圈与所述铁粉400磁性相斥的磁体230,由于铁粉400被所述电磁铁110吸引后被磁化,利用磁性相斥的原理束缚所述铁粉400,防止铁粉400水平扩散。

上述的电磁整烫结构的工作方式:

铁粉400被所述电磁铁110吸引后水平悬浮成一层,所述电磁线圈210产生的高频变化的交变磁场使所述铁粉400内产生涡流,铁粉400被加热,所述雾化喷口220喷出的雾化水汽经过所述被加热的铁粉400后即产生蒸汽,由于蒸汽是在离织物10很近的位置才产生的,因此蒸汽因搬运而损失的热量很少,有效提高能源的利用率。

以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围。

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