[发明专利]一种TDLAS气体检测方法及系统

权利要求书

1.一种TDLAS气体检测方法，其特征在于，所述方法包括：

半导体激光器出射的线激光入射到传输光纤；

传输光纤出射的线激光入射到全反射镜；

全反射镜将线激光反射后入射到垂直放置的气室；

入射到气室的线激光经第一透镜组反射后从线激光的入射面出射；

分析装置接收垂直放置的气室出射的线激光进行检测。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述传输光纤出射的线激光入射到全反射镜后还包括：

全反射镜将线激光反射后入射到第二透镜组扩束成带状激光；

则全反射镜将线激光反射后入射到垂直放置的气室；入射到气室的线激光经第一透镜组反射后从线激光的入射面出射；分析装置接收垂直放置的气室出射的线激光进行检测为：

第二透镜组出射的带状激光入射到垂直放置的气室；

入射到气室的带状激光经第一透镜组反射后从带状激光的入射面出射；

分析装置接收垂直放置的气室出射的带状激光进行检测。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述全反射镜将激光反射后入射到第二透镜组扩束成带状激光包括：

全反射镜将线激光反射后入射到凹透镜，线激光经所述凹透镜折射后出射光为发散的线激光；

凹透镜出射的发散的线激光入射到圆柱透镜的侧面，发散的线激光经所述圆柱透镜汇聚后出射光为带状激光。

4.根据权利要求2-3任意一项所述的方法，其特征在于，所述入射到气室的带状激光经第一透镜组反射后从带状激光的入射面出射包括：

入射到垂直放置的气室的带状激光经第一透镜组反射一次后从带状激光的入射面出射；

或者，

入射到垂直放置的气室的带状激光经第一透镜组反射多次后从带状激光的入射面出射。

5.一种TDLAS气体检测系统，其特征在于，所述系统包括：

半导体激光器、传输光纤、全反射镜、垂直放置的气室、第一透镜组以及分析装置；

所述半导体激光器，用于出射线激光；

所述传输光纤，用于将激光器出射的线激光传输至全反射镜；

所述全反射镜，用于将线激光反射后入射到垂直放置的气室；

所述第一透镜组，用于将入射到气室的线激光反射后从线激光的入射面出射；

所述垂直放置的气室，用于放置待测气体；

所述分析装置，用于对垂直放置的气室出射的线激光进行检测。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述系统还包括：

第二透镜组，用于将全反射镜反射后的线激光扩束成带状激光后入射到垂直放置的气室；

则所述第一透镜组，具体用于将入射到气室的带状激光反射后从带状激光的入射面出射；

所述分析装置，用于对垂直放置的气室出射的带状激光进行检测。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述第二透镜组包括：

凹透镜和圆柱透镜；

所述凹透镜，用于将传输光纤出射的线激光折射，出射光为发散的线激光；

所述圆柱透镜，用于将凹透镜出射的发散的线激光折射汇聚，出射光为带状激光。

8.根据权利要求7所述的系统，其特征在于，所述凹透镜为：

单凹透镜或双凹透镜。

9.根据权利要求6-8任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一透镜组包括：

靠近垂直放置的气室的底面放置的第一全反射镜；

第一全反射镜，用于将入射到垂直放置的气室的带状激光反射一次后从带状激光的入射面出射。

10.根据权利要求6-8任意一项所述的系统，其特征在于，所述第一透镜组包括：

靠近垂直放置的气室的带状激光入射面放置的第二全反射镜；

靠近垂直放置的气室的底面放置的第三全反射镜和第四全反射镜；

第二全反射镜、第三全反射镜和第四全反射镜用于将入射到垂直放置的气室的带状激光反射多次后从带状激光的入射面出射。