[发明专利]基于CAE分析的旋转电镀阴极电流密度分布的评价方法在审
申请号: | 201310742839.8 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN103849922A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 孙永爱;王宇;李永峰 | 申请(专利权)人: | 三星高新电机(天津)有限公司 |
主分类号: | C25D21/12 | 分类号: | C25D21/12;C25D5/04 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 徐慰明 |
地址: | 300385 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 cae 分析 旋转 电镀 阴极 电流密度 分布 评价 方法 | ||
技术领域
本发明涉及电镀技术领域,尤其涉及一种基于CAE分析的旋转电镀阴极电流密度分布的评价方法。
背景技术
随着制造业的发展,电镀加工件的形状越来越复杂,要求及标准不断提高,特别是小型复杂的零件,单靠传统的挂镀+阴极移动,很难达到较高的成品合格率,旋转电镀相对于传统的电镀方式具有明显的优点。旋转电镀是一种在电镀过程中实现待镀工件(阴极)相对阳极不断旋转,实现了工件在电镀槽内的溶液中沿中心轴作圆周旋转,这使得镀液对镀件表面不断的大幅度的冲刷和充分的接触交换,同时工件的旋转也使得在旋转电镀装置内的电力线分布较均匀,从而最终达到镀件的镀层均匀、质量好、成本低的目的。在水平旋转电镀、垂直旋转电镀、倾斜旋转电镀等方式中,垂直旋转电镀方式是适应现代化自动化生产发展要求的,最具前景的旋转电镀方式。
虽然旋转电镀可以满足生产的需要,但随着MLCC小型化的发展,对镀层的质量要求越来越高,电镀过程中发生的不良越来越难以控制。由于镀层质量与阴极的电流密度直接相关,而旋转电镀过程中由于电镀发生在密闭的空间内,阴极的电流密度无法进行直接测量,因此寻找一种操作简单、方便修改工艺参数,减少实验次数,缩短实验周期,降低实验成本的电流密度评价方法,成为现阶段本领域技术人员亟待解决的重要问题。
发明内容
本发明的目的在于克服上述技术的不足,而提供一种基于CAE分析的旋转电镀阴极电流密度分布的评价方法,方便修改工艺参数,减少实验次数,缩短实验周期,降低实验成本。
本发明为实现上述目的,采用以下技术方案:一种基于CAE分析的旋转电镀阴极电流密度分布的评价方法,包括以下步骤:
a、建立旋转电镀装置有限元模型,选取阴极圈为分析对象;
b、设定垂直旋转电镀锡的阳极篮电流值、阴极导电孔处的电位;
c、对阴极圈内壁电流密度分布进行仿真;
d、将仿真结果与基准参考值进行比较,若仿真结果大于基准参考值,则说明此部位容易发生流动不良,反之,为合格。
优选地,所述阳极篮电流值为30A-90A,阴极导电孔处的电位为0V。
优选地,所述步骤d中基准参考值为12.9mA/mm2
本发明的有益效果是: 本发明结构简单,工艺参数修改方便,大大减少实验次数,缩短实验周期,降低实验成本,基于该评价结果的改善大大降低了MLCC制品流动不良率,提升了MLCC制品的品质,更适于对未知的复杂系统的研究。
附图说明
图1是 旋转电镀装置改善前的模型图;
图2是 旋转电镀装置改善后的模型图;
图3是改善前边界条件设定及求解结果说明图;
图4是改善后边界条件设定及求解结果说明图;
图5 是改善前镀层表面形貌SEM 图;
图6 是改善后右镀层表面形貌SEM 图;
图7是改善前后不良率趋势对比图。
图中:1、阳极;2、Canopy;3、阴极圈;4、阴极圈绝缘底板;5、导电底座;6、阴极导电孔。
具体实施方式
下面结合附图及较佳实施例详细说明本发明的具体实施方式。实施例1
应用上述方法对改善前阴极圈内壁电流密度分布进行模拟,如图1和3所示,步骤如下:
(1)打开Workbench,从工具箱中调入电场分析系统【Electric】到项目流程图【Project Schematic】,工具栏中单击【Save】按钮,保存文件Current Density.wbpj。
(2)双击【Engineering Data】单元格。
(3)定义工程材料数据:数据大纲列表中新建材料名称【阳极】。
(4)工具箱中单击【Electric】→【Isotropic Resistivity】,输入各项同性电阻率,属性窗口中输入【Isotropic Resistivity】数值。
(5)工具栏中单击【Return to Project】返回项目流程图。
(6)创建改善前几何模型:右键单击【Geometry】,导入3D模型。
(7)稳态电流传导分析:
1)切换回Workbench窗口,双击【Model】单元格进入稳态电场分析环境。
2)明细窗口中指定材料:【Material】→【Assignment】。
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