[发明专利]结构光光斑图案生成方法和结构光光斑图案生成设备

权利要求书

1.一种结构光光斑图案生成方法，包括以下步骤：

初始化步骤，生成初始光斑图案，所述初始光斑图案为W个像素宽，H个像素高，W和H为大于1的自然数，所述初始光斑图案中的所有像素为暗像素；

随机矩阵生成步骤，生成W×H的随机实数矩阵；

局部最大值提取步骤，提取所述随机实数矩阵中的m×n实数矩阵子区域中具有局部最大值的矩阵元，m是小于W的自然数，n是小于H的自然数；

输出光斑图案生成步骤，将所述初始光斑图案的W×H像素矩阵中处于对应于具有所述局部最大值的矩阵元的像素置为亮像素，生成输出光斑图案；以及

整体优化步骤，将所述生成的输出光斑图案中亮像素移动到其领域位置之一，基于预定策略计算移动后输出光斑图案中每个w×h像素矩阵子区域与其他区域的汉明距离，并且选择具有最大的汉明距离之和的所述移动后输出光斑图案作为所述输出光斑图案，w是小于W的自然数，h是小于H的自然数，

其中，所述输出光斑图案中任意子区域的之间对应矢量的汉明距离之和最大。

2.如权利要求1所述的结构光光斑图案生成方法，其中所述预定策略为模拟退火法。

3.一种结构光光斑图案生成设备，包括：

初始化部件，配置为生成初始光斑图案，所述初始光斑图案为W个像素宽，H个像素高，W和H为大于1的自然数，所述初始光斑图案中的所有像素为暗像素；

随机矩阵生成部件，配置为生成W×H的随机实数矩阵；

局部最大值提取部件，配置为提取所述随机实数矩阵中的m×n实数矩阵子区域中具有局部最大值的矩阵元，m是小于W的自然数，n是小于H的自然数；

输出光斑图案生成部件，配置为将所述初始光斑图案的W×H像素矩阵中处于对应于具有所述局部最大值的矩阵元的像素置为亮像素，生成输出光斑图案；以及

整体优化部件，配置为接收所述输出光斑图案生成部件生成的输出光斑图案，将所述生成的输出光斑图案中亮像素移动到其领域位置之一，基于预定策略计算移动后输出光斑图案中每个w×h像素矩阵子区域与其他区域的汉明距离，并且选择具有最大的汉明距离之和的所述移动后输出光斑图案作为所述输出光斑图案，w是小于W的自然数，h是小于H的自然数，

其中，所述输出光斑图案中任意子区域的之间对应矢量的汉明距离之和最大。

4.如权利要求3所述的结构光光斑图案生成设备，其中所述预定策略为模拟退火法。