[发明专利]半导体制造的工艺任务处理方法及系统

权利要求书

1.一种半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

S100，在半导体制造的工艺配方中设置循环执行参数；

S200，根据半导体制造的工艺任务和所述循环执行参数生成所述工艺配方的循环执行数组；

S300，在判断所述工艺配方的循环执行数组符合所述工艺任务的逻辑要求后，在所述工艺任务中依次执行所述工艺配方的循环执行数组。

2.根据权利要求1所述的半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，所述循环执行参数为Cycles_status参数，所述Cycles_status参数由Single、Begin、Mid和End组成；

其中：Single表示单步循环，Begin表示一组循环的开始值，Mid表示一组循环的中间值，End表示为一组循环的结束值；

一个Single为一组循环；

或者一个成对出现的Begin和End为一组循环；

或者一个Begin、若干个Mid和一个End组成一组循环；

所述循环执行数组由若干组循环组成。

3.根据权利要求2所述的半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，所述逻辑要求为：Begin和End成对出现，且同一对Begin和End之间的循环次数相同；或者所述同一对Begin和End之间存在若干Mid，或者所述同一对Begin和End之间不存在Single。

4.根据权利要求1所述的半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，所述步骤S300中，在所述工艺任务中依次执行所述工艺配方的循环执行数组包括以下步骤：

S310，设置group变量，识别所述循环执行数组中的循环组数，并将所述循环组数的值赋予所述group变量；

S320，设置索引变量index，按照从小到大的顺序，控制所述索引变量index获取所述循环执行数组中的各组循环，并按照各组循环中的工艺步骤的顺序，依次执行所述循环执行数组中的各组循环。

5.根据权利要求4所述的半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，所述步骤S320包括以下步骤：

S321，设置索引变量index，令index的初始值为0；

S322，判断所述索引变量index的值是否小于所述group变量的值；

S323，若判断为是，则按照从小到大的顺序，控制所述索引变量index获取所述循环执行数组中的各组循环；

S324，若判断为否，则结束工艺。

6.根据权利要求5所述的半导体制造的工艺任务处理方法，其特征在于，所述步骤S320还包括以下步骤：

S325，在所述索引变量index获取所述循环执行数组中的当前组循环后，判断所述当前组循环的循环次数是否为零；

S326，若判断为否，则按照当前组循环的工艺步骤的顺序，依次执行所述当前组循环中的工艺步骤；

S327，若判断为是，则控制所述索引变量index获取所述循环执行数组中的下一组循环。

7.一种半导体制造的工艺任务处理系统，其特征在于，包括设置模块、生成模块以及执行模块，其中：

所述设置模块，用于在半导体制造的工艺配方中设置循环执行参数；

所述生成模块，用于根据半导体制造的工艺任务和所述循环执行参数生成所述工艺配方的循环执行数组；

所述执行模块，用于在判断所述工艺配方的循环执行数组符合所述工艺任务的逻辑要求后，在所述工艺任务中依次执行所述工艺配方的循环执行数组。

8.根据权利要求7所述的半导体制造的工艺任务处理系统，其特征在于，所述循环执行参数为Cycles_status参数，所述Cycles_status参数由Single、Begin、Mid和End组成；

其中：Single表示单步循环，Begin表示一组循环的开始值，Mid表示一组循环的中间值，End表示为一组循环的结束值；

一个Single为一组循环；

或者一个成对出现的Begin和End为一组循环；

或者一个Begin、若干个Mid和一个End组成一组循环；

所述循环执行数组由若干组循环组成。