[发明专利]一种地氯雷他定新晶型及制备方法

权利要求书

1.一种地氯雷他定新晶型晶体，其特征在于：使用Cu-Kα辐射，以2θ衍射角表示的晶体的X-射线粉末在2θ衍射角12.8570处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为45.31%，对应的晶面间距D为6.88561；

在2θ衍射角13.0032处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为88.76%，对应的晶面间距D为6.80856；

在2θ衍射角13.5683处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为30.64%，对应的晶面间距D为6.52620；

在2θ衍射角15.3682处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为14.70%，对应的晶面间距D为5.76569；

在2θ衍射角18.5063处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为54.06%，对应的晶面间距D为4.79448；

在2θ衍射角19.6901处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为27.18%，对应的晶面间距D为4.50882；

在2θ衍射角20.9865处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为100.00%，对应的晶面间距D为4.23314；

在2θ衍射角25.0716处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为45.31%，对应的晶面间距D为3.55190；

在2θ衍射角26.1439处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为80.59%，对应的晶面间距D为3.40859；

在2θ衍射角29.1273处有衍射峰，所述衍射峰的相对强度为27.51%，对应的晶面间距D为3.06590。

2.一种制备权利要求1所述地氯雷他定新晶型晶体的方法，包括如下步骤：将地氯雷他定溶解于四氢呋喃后，再向体系中滴加水，滴加完毕后过滤，取滤饼，干燥，得到所述地氯雷他定新晶型晶体。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于：所述地氯雷他定与四氢呋喃的用量比为1g：3-5ml。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于：所述滴加步骤中，水的用量为所述四氢呋喃体积用量的6-8倍。

5.根据权利要求2-4任一所述的方法，其特征在于：所述溶解步骤中，温度为40-50℃；

所述滴加步骤中，温度为15-25℃。

6.根据权利要求2-5任一所述的方法，其特征在于：所述滴加步骤中，滴加速率为3-5ml/min，具体3ml/min。

7.权利要求1所述地氯雷他定新晶型晶体在制备抗组胺药物中的应用。

8.以权利要求1所述地氯雷他定新晶型晶体为活性成分的抗组胺药物。