[发明专利]一种硅片研磨液

权利要求书

1.一种硅片研磨液包括：氧化铝、氧化硅、三聚氰胺、氧化铈、甲基丙烯酸、硅酸钠、氧化锆、十八烷基三甲基溴化胺、聚二烯丙基二甲基氯化铵、聚氧乙烯醚、二甲亚砜环己烷、羟甲基纤维素、渗透剂、表面活性剂；其特征在于所述氧化铝35-45份、氧化硅15-25份、三聚氰胺10-15份、氧化铈11-15份、甲基丙烯酸3-9份、硅酸钠2-5份、氧化锆1-3份、十八烷基三甲基溴化胺4-13份、聚二烯丙基二甲基氯化铵1-8份、聚氧乙烯醚2-7份、二甲亚砜环己烷4-8份、羟甲基纤维素3-6份、渗透剂2-8份、表面活性剂3-9份。

2.如权利要求1所述的一种硅片研磨液，其特征在于氧化铝35份、氧化硅20份、三聚氰胺14份、氧化铈13份、甲基丙烯酸5份、硅酸钠4份、氧化锆2份、十八烷基三甲基溴化胺6份、聚二烯丙基二甲基氯化铵3份、聚氧乙烯醚4份、二甲亚砜环己烷6份、羟甲基纤维素5份、渗透剂5份、表面活性剂6份。

3. 如权利要求1所述的一种硅片研磨液，其特征在于氧化铝40份、氧化硅22份、三聚氰胺15份、氧化铈12份、甲基丙烯酸5份、硅酸钠5份、氧化锆3份、十八烷基三甲基溴化胺7份、聚二烯丙基二甲基氯化铵6份、聚氧乙烯醚4份、二甲亚砜环己烷5份、羟甲基纤维素5份、渗透剂5份、表面活性剂4份。

4.如权利要求1所述的一种硅片研磨液，其特征在于氧化铝38份、氧化硅21份、三聚氰胺12份、氧化铈13份、甲基丙烯酸6份、硅酸钠3份、氧化锆2份、十八烷基三甲基溴化胺10份、聚二烯丙基二甲基氯化铵6份、聚氧乙烯醚5份、二甲亚砜环己烷6份、羟甲基纤维素4份、渗透剂6份、表面活性剂7份。

5.如权利要求1所述的一种硅片研磨液，其特征在于将上述原料混合在110-130°C下搅拌均匀得到研磨液，固体原料的粒径为50-120nm。