[发明专利]液晶显示面板的修复方法及修复系统

说明书

技术领域

本发明涉及平面显示领域，尤其涉及一种液晶显示面板的修复方法及修复系统。

背景技术

薄膜晶体管（TFT）阵列是有源矩阵液晶显示器（TFT-LCD）的关键结构，因此TFT矩阵的好坏对TFT-LCD的品质至关重要。然而，形成TFT结构的阵列（Array）制程较为复杂繁琐，在反复的工艺中，往往会导致TFT的缺陷产生，如：沟道、源极、漏极、栅极等电极短路或断路缺陷，与引线有关的扫描线、信号线的短路或断路缺陷、储存电容电极和像素电极的缺陷。因此，针对这些缺陷，典型的Array制程中在栅极制程和源/漏极工程后均有激光化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）修补的步骤。随着TFT-LCD不断向着高分辨率和高精细化的方向发展，要保证生产的TFT毫无缺陷基本不可能实现，所以对TFT的修复，特别是对TFT的精细修复显得更加重要。

激光CVD是一种利用激光化学反应直接沉积微区薄膜的技术，它通过激光加热或激光直接作用气体分子，使气体分子裂解，然后在基板上沉积成膜。激光CVD具有以下优点：1、微区沉积，空间分辨率高且可控，非激光照射区域不受热影响；2、能实现定域内的迅速升温，达到吸附在基底表面的化学物质的分解温度，快速沉积；3、无污染，工艺简单；4、可与其他激光加工技术并用。基于这些特点，激光CVD在TFT阵列的断路或断面修复中有重要应用价值。目前，用于TFT布线的激光CVD修复方法是以六羰基铬（Cr(CO)₆）或六羰基钨（W(CO)₆）为反应气体，沉积铬（Cr）或钨（W）金属线路使电路重新导通。然而，此修复部分具有非均匀的电导率，在施加热载荷时将引起热应力，因此导致修复点的可靠性隐患；另外，所使用的原料Cr(CO)₆和W(CO)₆是有剧毒和对环境有害的物质。

石墨烯是一种新型的碳纳米材料，具有超强的导电、导热和机械性能。因此，若能用石墨烯代替Cr或W沉积在断路的缺陷出，由于石墨烯更优异的电荷和热量的传输能力，及优异的延展性，可以提高修复点的可靠性。目前，生长石墨烯的方法有机械剥离法、碳化硅（SiC）外延生产法、氧化还原法和化学气相沉积法，其中CVD法是使用最为普遍的一种方法，所生长的石墨烯缺陷少，品质好。另一方面，CVD法生长石墨烯所使用的原料是非常易得的碳氢化合物，比沉积W或Cr的原料更安全环保，成本也更低。CVD法制备石墨烯是使含碳的气体，如碳氢化合物，在高温下分解成碳原子沉积在基底的表面，形成石墨烯。产生高温的加热方式一般采用电阻丝加热，但是此方式升温和降温速率慢，而且使整个基底都处于高温之下，无法实现微区选择性沉积，若应用此方法修复TFT-LCD中的缺陷，还会对很多结构造成破坏。

发明内容

本发明的目的在于提供一种液晶显示面板的修复方法，通过激光化学气相沉积法，在断路处形成石墨烯，以修复断路，制程简单，修复效果好，且以甲烷等常见气体为碳源气体，利于环境保护。

本发明的另一目的在于提供液晶显示面板的修复系统，通过控制系统控制激光设备的开关，有效控制所形成的石墨烯的层数，进而控制石墨烯的导电率，提升修复效果。

为实现上述目的，本发明提供一种液晶显示面板的修复方法，包括以下步骤：

步骤1、提供液晶显示面板，该液晶显示面板上的电路有断路；

步骤2、通过激光化学气相沉积法在液晶显示面板上形成石墨烯，以连通该断路。

所述液晶显示面板包括基板、形成于基板上的数据线与扫描线、形成于数据线与扫描线上的绝缘层及形成绝缘层上的像素电极，所述断路位于数据线、扫描线或像素电极上。

所述石墨烯形成于数据线、扫描线或像素电极上的断路位置，以将数据线、扫描线或像素电极电性连接。

所述石墨烯形成于所述绝缘层上，并在绝缘层上形成接触孔，所述石墨烯通过接触孔与数据线或扫描线电性连接。

所述步骤2中，以甲烷与氢气、甲烷与氩气、或乙烷与氢气或氩气的混合气体为碳源气体；以激光为能量源进行激光化学气相沉积。

所述步骤2中，还以铜蒸汽为催化剂进行激光化学气相沉积。

还包括步骤3，将石墨烯暴露于掺杂分子的环境中，对石墨烯进行分子掺杂。