[发明专利]具有可偏转电子束的X射线设备

权利要求书

1.一种X射线设备(1)，包括：

电子束源(2)，发射电子束(3)，

靶(4)，电子束(3)被引导到其上，从而在靶(4)上形成焦斑(5；5a，5b)，

X射线光学元件(6)，收集来自X射线光学元件(6)的焦点(7)的X射线，并形成X射线束(8)，以及

样品位置(9)，X射线束(8)被引导到该样品位置(9)处，

其特征在于，

X射线设备(1)还包括适用于使焦斑(5；5a，5b)在靶(4)上移动的静电或电磁电子束偏转装置(10)，并且在偏转装置(10)被调节的情况下，所述电子束(3)的焦斑(5；5a，5b)与X射线光学元件(6)的焦点(7)重合，以及

在任意方向(x，y，z)上，焦斑(5；5a，5b)的扩展范围比靶(4)的扩展范围小至少F倍，F＝1.5。

2.根据权利要求1所述的设备(1)，其特征在于，该靶(4)为液态金属喷射靶(4)。

3.根据权利要求2所述的设备(1)，其特征在于，在与液态金属喷射靶传播方向(x)垂直并与电子束(3)的传播方向(z)垂直的方向(y)上，焦斑(5；5a，5b)的扩展范围比液态金属喷射靶(4)的扩展范围小至少FT倍，FT＝2。

4.根据权利要求2所述的设备(1)，其特征在于，在与液态金属喷射靶传播方向(x)垂直并与电子束(3)的传播方向(z)垂直的方向(y)上，焦斑(5；5a，5b)的扩展范围比液态金属喷射靶(4)的扩展范围小至少FT倍，FT＝5。

5.根据前面的权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，靶(4)具有曲面(12)，具体地，具有曲率半径R，0＜R≤10mm。

6.根据前面的权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，靶(4)具有曲面(12)，具体地，具有曲率半径R，0＜R≤1mm。

7.根据权利要求5所述的设备(1)，其特征在于，电子束偏转装置(10)适用于在靶面(12)弯曲的平面(yz)内使焦斑(5；5a，5b)在靶(4)上移动。

8.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该X射线设备(1)还包括适用于将焦斑(5；5a，5b)的斑面积(Aa，Ab)改变至少FS倍的静电或电磁电子束聚焦装置(11)，FS＝2。

9.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该X射线设备(1)还包括适用于将焦斑(5；5a，5b)的斑面积(Aa，Ab)改变至少FS倍的静电或电磁电子束聚焦装置(11)，FS＝5。

10.根据权利要求8所述的设备(1)，其特征在于，该电子束聚焦装置(11)包括一个或更多个电磁线圈和/或一个或更多个充电电极。

11.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该电子束偏转装置(10)适用于使焦斑(5；5a，5b)在靶上移动至少距离D，D＝50μm。

12.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该电子束偏转装置(10)适用于使焦斑(5；5a，5b)在靶上移动至少距离D，D＝200μm。

13.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该电子束偏转装置(10)适用于在与电子束(3)的传播方向(z)垂直的两个独立的方向(x，y)上使电子束(3)偏转，具体地，其中，所述两个独立的方向(x，y)彼此垂直。

14.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该电子束偏转装置(10)包括一个或更多个电磁线圈和/或一个或更多个充电电极。

15.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，该X射线光学元件(6)包括多层镜和/或毛细管X射线光学元件，该多层镜具体是Montel镜或者镜或者具有相对于入射X射线的径向和纵向方向二者弯曲的单个反射面的镜子。

16.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，倍数F＝2。

17.根据权利要求1-4中的一项所述的设备(1)，其特征在于，倍数F＝5。