[发明专利]产酸剂和含有它的光刻胶

权利要求书

1.一种光刻胶组合物，所述光刻胶组合物包括：

(i)一种聚合物；

(ii)对应于下式(I)的产酸剂：

其中R¹、R²和R³为相同或不同的非氢取代基，且R¹、R²和R³可任意合起来形成环，且Z^-为磺酸根部分的α位含有至少一个吸电子取代基的磺酸根阴离子；并且

(iii)对应于下式(IV)的产酸剂：

其中R⁴和R⁵为相同或不同的非氢取代基并且可合起来形成环；或R⁴或R⁵之一可与芳香取代基形成环；A为非氢取代基；m为0-4的整数；R⁶为提供酸不稳定部分的非氢取代基；以及Q^-为羧酸根、磺酸根、或氨基磺酸根阴离子，在羧酸根、磺酸根、或氨基磺酸根部分的α位置不包含吸电子基团。

2.权利要求1所述的光刻胶组合物，其中式(I)的产酸剂对应于下式(III)：

其中R²和R³为相同或不同的非氢取代基；并且R²和R³可合起来形成环；或R²或R³之一可与芳香取代基形成环；A为非氢取代基；m为0-4的整数；T为提供酸不稳定部分的非氢取代基；以及Z^-为磺酸根的α位含有至少一个吸电子取代基的磺酸根阴离子。

3.权利要求1-2任一所述的光刻胶组合物，其中Z键合至聚合物。

4.权利要求1所述的光刻胶组合物，其中式(I)和(IV)之一或两个的产酸剂都含有噻吨酮或二苯并噻吩部分。

5.权利要求2所述的光刻胶组合物，其中式(III)和(IV)之一或两个的产酸剂都含有噻吨酮或二苯并噻吩部分。

6.一种提供光刻胶浮雕图像的方法，所述方法包括：

(a)在基材上应用权利要求1-5中任一光刻胶组合物的涂层；以及

(b)将光刻胶组合物层曝光于活化辐射并显影该曝光的光刻胶组合物涂层。

7.权利要求6所述的方法，其中所述光刻胶组合物层曝光于EUV或电子束辐射。