[实用新型]一种太阳光谱选择性吸收膜有效
申请号: | 201320005802.2 | 申请日: | 2013-01-07 |
公开(公告)号: | CN203163316U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 刘小军 | 申请(专利权)人: | 湖南兴业太阳能科技有限公司 |
主分类号: | F24J2/48 | 分类号: | F24J2/48;B32B5/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 411201 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳 光谱 选择性 吸收 | ||
技术领域
本实用新型属于薄膜技术和薄膜材料领域,涉及一种颜色可调选择性太阳能吸收膜。
背景技术
太阳能选择性吸收涂层是太阳能集热设备的核心部件,起着吸收太阳辐射能量并向集热器的传热工质传递热量的双重作用,目前市场上主要的太阳能选择性吸收涂层有黑铬、黑镍、阳极氧化涂层以及蓝钛镀膜等,现有涂层颜色单一,不美观,缺乏装饰性不能使太阳能热水系统与建筑物在色调上协调一致。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种太阳光谱选择性吸收膜。
本实用新型的技术方案是,一种太阳光谱选择性吸收膜,包括覆膜基体,在覆膜基体表面从内到外依次设有中间介质层、半透明金属层、表面介质层,所述的覆膜基体为Al或Cu,所述的中间介质层和表面介质层为含氮化硅或氮氧化硅的涂层,所述的半透明金属层为含铬的涂层。
覆膜基体的厚度为0.05-0.5mm,中间介质层和表面介质层厚度为30~100nm,半透明金属层厚度为1~50nm。
在表面介质层外增加一个或两个“半透明金属层/介质层”交替层。
“半透明金属层/介质层”交替层的半透明金属层为含铬的涂层,介质层为含氮化硅或氮氧化硅的涂层。
“半透明金属层/介质层”交替层的半透明金属层的厚度为1~30nm,介质层厚度为30~100nm。
一种太阳光谱选择性吸收膜的生产方法:
本实用新型具有如下的技术效果,太阳光谱选择性吸收膜的太阳能吸收率高,发射率低,膜颜色可根据需要进行调节,能使太阳能热水系统与建筑物在色调上协调一致。
附图说明
图1是蓝色的太阳光谱选择性吸收膜的层状结构示意图。
图2是蓝色的太阳光谱选择性吸收膜的层状结构示意图。
图3是黑色的太阳光谱选择性吸收膜的层状结构示意图。
图4是紫色的太阳光谱选择性吸收膜的层状结构示意图
具体实施方式
实施例1
如图1所示,一种蓝色的太阳光谱选择性吸收膜,包括一个铝覆膜基体1,在铝覆膜基体1表面从内到外依次覆盖厚度为60nm的氮化硅中间介质层2、厚度为15nm的半透明金属铬层3、厚度为68nm的氮氧化硅表面介质层4。
其生产方法是:
选择性吸收涂层的制备方法依次按以下步骤进行:
a.将Al基体进行表面处理,除去表面油污和氧化皮;
b.将表面处理好的基体烘干;
c.将烘干的基体置于真空镀膜室内;
d.真空室内,先在基体上磁控溅射一层氮化硅中间介质层,真空度为0.5Pa气体溅射靶材为中频电源控制的双阴极硅靶,其溅射电流为45A,溅射电压为570V,溅射气体为Ar,反应气体为N2,Ar占所有气体比重的43%,N2占57%;
e.真空室内,再溅射一层半透明金属铬层,真空度为0.5Pa气体溅射靶材为双阴极铬靶,其溅射电流为10A,溅射电压为510V,溅射气体为Ar;
f.真空室内,最后再磁控溅射一层氮氧化硅表面介质层,真空度为0.5Pa气体溅射靶材为中频电源控制的双阴极硅靶,其溅射电流为47A,溅射电压为600V,溅射气体为Ar,反应气体为N2掺O2,Ar占所有气体比重的33%,N2占60%,O2占7%。
该蓝色的太阳光谱选择性吸收膜的太阳能吸收率为:94.5%,发射率为:5%。
实施例2
如图2所示,一种蓝色的太阳光谱选择性吸收膜,包括一个铝覆膜基体1,在铝覆膜基体1表面从内到外依次覆盖厚度为60nm的氮化硅中间介质层2、厚度为23nm的半透明金属铬层3、厚度为58nm的氮化硅表面介质层4,在表面介质层4外增加一个“半透明金属层/介质层”交替层5,“半透明金属层/介质层” 交替层5的半透明金属层为含铬的涂层,厚度为10nm,介质层为含氮化硅的涂层,厚度为59nm。
其生产方法是:
选择性吸收涂层的制备方法依次按以下步骤进行:
a.将Al基体进行表面处理,除去表面油污和氧化皮;
b.将表面处理好的基体烘干;
c.将烘干的基体置于真空镀膜室内;
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