[实用新型]一种均流膜有效
申请号: | 201320007311.1 | 申请日: | 2013-01-08 |
公开(公告)号: | CN203177417U | 公开(公告)日: | 2013-09-04 |
发明(设计)人: | 李红宝 | 申请(专利权)人: | 苏州珐玛德克净化设备有限公司 |
主分类号: | F24F13/08 | 分类号: | F24F13/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215300 江苏省昆山*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均流膜 | ||
技术领域
本实用新型涉一种均流膜,具体而言,涉及一种用于层流罩、称量罩、隔离器以改善送风均匀性产品的均流膜。
背景技术
现有的均流膜是采用不锈钢网板,在不锈钢板上冲满小孔,通过小孔送风实现送风二次优化,这种技术存在的不足是,孔与孔之间存在音区,并且不会形成静压,送风均匀性较差。
实用新型内容
为了克服现有技术存在的以上问题,本实用新型提供一种均流膜,解决现有均流膜送风均匀性较差的问题。
为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:
一种均流膜,包括一焊接成型的框架,所述框架上粘结有高分子膜,所述框架四周粘有美纹锡纸。
进一步的,所述框架为不锈钢或铝型材。
进一步的,所述框架可根据不同设备,不同连接需求选用不同类型框架,以保证两个均流膜之间无漏风现象。由于高分子膜网线分布均匀,上游可形成静压,可有效改善均流膜下方送风均匀性。
本实用新型的有益效果是:
本实用新型的高分子膜网线在框架上分布均匀,上游可形成静压,可有效改善均流膜下方送风均匀性,适用于层流罩、称量罩、隔离器以改善送风均匀性产品。
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段,并可依照说明书的内容予以实施,以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。本实用新型的具体实施方式由以下实施例及其附图详细给出。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型第一实施例的均流膜安装结构示意图;
图2为本实用新型第二实施例的均流膜安装结构示意图;
图3为本实用新型第三实施例的均流膜安装结构示意图;
图4为本实用新型第四实施例的均流膜安装结构示意图。
具体实施方式
下面将参考附图并结合实施例,来详细说明本实用新型。
一种均流膜,包括一焊接成型的框架,所述框架上粘结有高分子膜,所述框架四周粘有美纹锡纸。
进一步的,所述框架为不锈钢或铝型材。
进一步的,参见图1、图2、图3和图4所示,所述框架可根据不同设备,不同连接需求选用不同类型框架,以保证两个均流膜之间无漏风现象。由于高分子膜网线分布均匀,上游可形成静压,可有效改善均流膜下方送风均匀性。
以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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