[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置有效
| 申请号： | 201320025570.7 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN203096160U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 王叔晖;刘竹杨 | 申请（专利权）人： | 上海法德机械设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 胡美强;邱江霞 |
| 地址： | 201616 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 矩形 平面 多弧靶 真空镀膜 装置 | ||
【权利要求书】：
一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定一靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。
如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该靶材的形状为矩形，该靶材区域的形状与该靶材的形状相适配。
如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该中心陶瓷压条的形状为杆状。
如权利要求1‑3中任意一项所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一极板、一组导磁铁和一永磁体，该永磁体设于该靶材区域的中央的下方，该组导磁铁包括至少两个导磁铁并围设于该靶材区域的边缘的下方，该极板设于该组导磁铁下方并与该组导磁铁分别形成极靴。
如权利要求4所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该组导磁铁为一对导磁铁，该对导磁铁对称地围设于该靶材区域的边缘的下方。
如权利要求4所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该永磁体为磁钢。
如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一引弧针和一气动装置，该气动装置控制该引弧针起弧。
一种包括如权利要求1‑7中任意一项所述的矩形平面多弧靶的真空镀膜装置。
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