[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置

权利要求书

一种矩形平面多弧靶，包括一靶座，该靶座的顶端面上设有用于容纳固定靶材的一靶材区域，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一组电磁线圈和一永磁体，该组电磁线圈设于该靶座下方对应于该靶材区域的位置，该永磁体设于该组电磁线圈的中间。

如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一线圈护罩，该线圈护罩围设于该组电磁线圈外并与该组电磁线圈形成极靴。

如权利要求2所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一电磁线圈骨架，该电磁线圈骨架设于该靶座下方并位于该线圈护罩内侧，与该线圈护罩形成用于容纳该组电磁线圈的空间。

如权利要求1所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该永磁体为磁钢。

如权利要求1‑4中任意一项所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括用于固定该靶材的一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶材区域的边缘，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间。

如权利要求5所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该靶材的形状为矩形，该靶材区域的形状与该靶材的形状相适配。

如权利要求6所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该中心陶瓷压条的形状为杆状。

如权利要求7所述的矩形平面多弧靶，其特征在于，该矩形平面多弧靶还包括一引弧针和一气动装置，该气动装置控制该引弧针起弧。

一种包括如权利要求1‑8中任意一项所述的矩形平面多弧靶的真空镀膜装置。

如权利要求9所述的真空镀膜装置，其特征在于，该真空镀膜装置还包括一水嘴接头。