[实用新型]一种更加全面去除反应釜内杂质的搅拌装置

说明书

技术领域：

本实用新型涉及一种搅拌器，具体涉及一种更加全面去除反应釜内杂质的搅拌装置。

背景技术：

搅拌器在反应釜内搅拌时，液体产生混合和反应，产生气泡，液体中的一些杂质会随着蒸汽吸附在反应釜内壁上端，无法清理干净，在下次搅拌时，可能会随着反应釜内的其他液体一同落入，对搅拌的液体的纯度和所需求的液体含量产生变化，另一方面，液体表面浮起的杂质很难被分解。

实用新型内容：

本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术的缺陷，提供一种能去掉反应釜内壁上端的杂质的一种搅拌器。

本实用新型所要解决的技术问题采用以下技术方案来实现。

一种更加全面去除反应釜内杂质的搅拌装置，主要包括搅拌轴，搅拌轴下端设有搅拌叶，其特征在于：所述的搅拌轴上端的设有框式搅拌器，框式搅拌器上设有刮片，框式搅拌器与反应釜内壁相吻合。

所述的搅拌轴上设有支撑架支撑框式搅拌器，固定搅拌器。

所述的框式搅拌器从反应釜内壁顶延伸至反应釜侧面，杂质在搅拌的过程中有时会吸附在内壁的侧面，框式搅拌器可以更加全面的去除杂质。

所述的框式搅拌器延伸至反应釜内壁侧面的距离至反应釜侧面1/3处或延伸至反应釜底部：延伸至1/3处，一般反应釜内的液体会放至2/3，剩余的空间由于搅拌时的液体晃动，液体在被搅拌，晃动到空出，会有杂质遗留在空出的内壁上，1/3的长度可以清理干净，其余的在液体内，无法且在搅拌时无需清理；延伸至底部时，一部分同1/3长度相同，剩余的可以在液体内起到搅拌的作用，也可以在搅拌完成后，需要对反应釜整体清理，起到更加方便的作用。

本实用新型结构简单，设计合理，在搅拌的同时，刮片对反应釜内壁上的杂质产生清理，方便快捷，适用性强，且还可以对液体表面进行简单的搅拌，加速液体表面杂质的化解。 

附图说明：

图1为本实用新型的一种实施例结构示意图；

图2为本实用新型的另一种实施例结构示意图；

其中：1：搅拌轴； 2：搅拌叶； 3：框式搅拌器；4：刮片；5：反应釜；6：支撑架。

具体实施方式：

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。

如图1所示一种更加全面去除反应釜内杂质的搅拌装置，主要包括搅拌轴1，搅拌轴1下端设有搅拌叶2，所述的搅拌轴1上端的设有框式搅拌器3，框式搅拌器3上设有刮片4，框式搅拌器3与反应釜5内壁相吻合，搅拌轴1上设有支撑架6支撑框式搅拌器3，框式搅拌器3从反应釜5内壁顶延伸至侧面的距离为反应釜5侧面1/3处。

如图2所示一种更加全面去除反应釜内杂质的搅拌装置，主要包括搅拌轴1，搅拌轴1下端设有搅拌叶2，所述的搅拌轴1上端的设有框式搅拌器3，框式搅拌器3上设有刮片4，框式搅拌器3与反应釜5内壁相吻合，搅拌轴1上设有支撑架6支撑框式搅拌器3，框式搅拌器3从反应釜5内壁顶延伸至侧面的距离为反应釜5侧面底部。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。