[实用新型]一种低弹跳真空灭弧室结构有效

专利信息
申请号: 201320030603.7 申请日: 2013-01-21
公开(公告)号: CN203192686U 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 张毅;陈志会;周吉冰 申请(专利权)人: 中国振华电子集团宇光电工有限公司(国营第七七一厂)
主分类号: H01H33/664 分类号: H01H33/664
代理公司: 北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362 代理人: 王娟;郭防
地址: 550018 贵州省*** 国省代码: 贵州;52
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摘要:
搜索关键词: 一种 弹跳 真空 灭弧室 结构
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种低弹跳真空灭弧室结构,属于电力开关设备技术领域。 

背景技术

真空灭弧室在合闸过程中,真空灭弧室的动触头与静触头在刚接触直至触头稳定接触瞬间为止,这期间会出现动触头与静触头反复的分合过程,即弹跳现象。现目前使用的真空灭弧室在合闸过程中,两个触头间由于刚性碰撞而产生弹跳,弹跳时间长、弹跳幅度大,无法满足真空断路器的机械参数要求。这种弹跳现象不仅影响真空灭弧室的稳定性和可靠性,而且在合闸过程中,由于动触头与静触头断开距离小,电弧不会熄灭,真空灭弧室内电弧能量迅速累积,容易产生触头发热、熔焊现象,导致触头电磨损加重,严重影响真空灭弧室的开断性能和使用寿命,同时,触头合闸弹跳时间过长,会使真空灭弧室的波纹管受强迫振动而出现裂纹,危害波纹管使用寿命,导致真空灭弧室漏气,从而影响真空灭弧室的使用寿命。 

发明内容

本实用新型的目的在于:提供一种低弹跳真空灭弧室结构,解决现有真空灭弧室弹跳时间长、弹跳幅度大,容易产生触头发热、熔焊现象等问题。 

本实用新型的技术方案:一种低弹跳真空灭弧室结构,包括有杯托,杯托内侧面分别与静触头、动触头连接,杯托连接的内侧面上设有环形槽,环形槽环绕的内圈为中间受力部分,加强筋一端连接杯托上的中间受力部分。 

上述的低弹跳真空灭弧室结构,所述环形槽环绕的中间受力部分上设有定位槽。 

上述的低弹跳真空灭弧室结构,所述环形槽的深度为2~20mm。 

上述的低弹跳真空灭弧室结构,所述中间受力部分的直径d为15~60mm。 

上述的低弹跳真空灭弧室结构,所述杯托分别与静导电杆和动导电杆连接,静导电杆、动导电杆上设有凹槽。 

上述的低弹跳真空灭弧室结构,所述静导电杆上的凹槽的宽度为L1、深度为H1,动导电杆上的凹槽的宽度为L2、深度为H2,L1、L2大小为2~50mm, H1大小为对应开槽处动导电杆直径d1的1/2~1/4倍,H2大小为对应开槽处静导电杆直径d2的1/2~1/4倍。 

本实用新型的有益效果:在合闸过程中,动触头与静触头相接触,接触后,触头将反作用力通过加强筋传递给杯托上的中间受力部分以及开设有凹槽的导电杆,开设有环形槽的杯托受力面积变小,中间受力部分在受到500kg左右反作用力的作用下易产生微量塑性变形,变形过程中吸收消除反作用力,开设有凹槽的导电杆强度降低,在受力过程中容易发生微量塑性变形,也吸收消除部分反作用力,作用力降低,从而导致弹跳时间缩短、弹跳幅度减小,降低了触头发热、熔焊现象出现的概率,避免了触头电磨损加重,延长了真空灭弧室的使用寿命。 

附图说明

附图1为本实用新型的结构示意图; 

附图2为本实用新型的零件结构示意图;

附图3为本实用新型的零件结构示意图:

附图4为本实用新型的零件结构示意图;

1-静导电杆,2-静触头,3-加强筋,4-动触头,5-杯托,6-动导电杆,7-环形槽,8-定位槽,9-中间受力部分,10-凹槽。

具体实施方式

本实用新型的实施例1:如附图1和附图2所示,包括有杯托5,杯托5外侧面与静导电杆1、动导电杆6连接,触头座5内侧面与静触头2、动触头4连接,杯托5连接的内侧面上设有环形槽7,环形槽7环绕的内圈为中间受力部分9,环形槽7环绕的中间受力部分9上设有定位槽8,加强筋3一端卡入中间受力部分9上的定位槽处,另一端与静触头2、动触头4连接,静导电杆1、动导电杆6上各设有一凹槽10。 

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