[实用新型]一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备

权利要求书

1.一种使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，所述的蚀刻设备包括蚀刻液供给设备（1）、蚀刻液回收设备（2）以及蚀刻反应槽（3），所述的蚀刻液供给设备通过输送管（30）连接到蚀刻反应槽，其特征在于所述的蚀刻液供给设备设有至少两组，分别输出不同反应液，在蚀刻反应槽的前侧面及后侧面及底面共三个面上分别设置有多组的液体进出口（31），每组的液体进出口（31）分别与反应液输出管道的输送管（30）连接，所述的蚀刻液供给设备还包括有多个的流量控制器（32），在每组输送管（30）上连接一流量控制器（32），流量控制器对组输送管进行单独的顺逆流动控制，反应液在蚀刻反应槽与各个流量控制器与连接管路之间形成可控流体场，所述的流量控制器与蚀刻液回收设备之间还设有一回收管（33）。

2.根据权利要求1所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备 ，其特征在于所述的每组的液体进出口（31）包括有两个或以上的进出通道，反应槽（3）外设置有接液槽（4）。

3.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为两组，分别为酸性蚀刻液和中性水。

4.根据权利要求2所述的使用可控流体场的玻璃蚀刻设备，其特征在于所述的在蚀刻反应槽的三个侧面上设置的多组液体进出口为三组，分别为酸性蚀刻液、中性水及碱性反应液。