[实用新型]一种基板支撑装置有效
申请号: | 201320032323.X | 申请日: | 2013-01-22 |
公开(公告)号: | CN203134772U | 公开(公告)日: | 2013-08-14 |
发明(设计)人: | 覃一锋;赵承潭;陈旭 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;张振伟 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 支撑 装置 | ||
1.一种基板支撑装置,其特征在于,该装置包括下支撑板以及用于放置基板的上支撑板,所述下支撑板上设置有用于支撑所述上支撑板的支撑柱,所述下支撑板上还设置有用于推升或降下所述支撑柱以使所述上支撑板达到水平的水平调节器。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述支撑柱为设置有与外界大气压相通的通孔的储液腔,所述储液腔与下支撑板均为中空结构,所述储液腔的底端开口并进入所述下支撑板。
3.根据权利要求2所述的装置,其特征在于,该装置还包括用于对所述储液腔中的液面进行测试以使所述上支撑板达到水平的水平测试仪。
4.根据权利要求3所述的装置,其特征在于,所述水平测试仪设置于所述储液腔的顶端、内壁上或外部。
5.根据权利要求4所述的装置,其特征在于,所述水平测试仪设置于所述储液腔的内壁上或外部时,所有水平测试仪与所述上支撑板之间的距离相等。
6.根据权利要求3至5任一项所述的装置,其特征在于,
所述储液腔的数量、水平测试仪的数量以及水平调节器的数量,均为一个或一个以上。
7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述水平测试仪、水平调节器分别与处理模块相连;其中,
所述水平测试仪,用于测试自身与相应储液腔中的液面之间的距离,将该距离传输给所述处理模块;
所述处理模块,用于根据收到的距离控制所述水平调节器针对储液腔进行推升或降下处理,直到所述上支撑板达到水平。
8.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,
所述上支撑板是中空的,上支撑板的表面上设置有微孔,该微孔与上支撑板中空的内部相通,并且所述微孔通过上支撑板上设置的导管与能够向所述上支撑板吹气或吸气的气动装置相连。
9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述微孔成阵列排布。
10.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述下支撑板为PPS塑料。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造