[实用新型]一种异物检查处理装置及曝光机有效

专利信息
申请号: 201320045952.6 申请日: 2013-01-28
公开(公告)号: CN203054450U 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 黄常刚;张思凯;汪栋 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01B11/00;G01B11/28;G01N21/88
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 异物 检查 处理 装置 曝光
【权利要求书】:

1.一种异物检查处理装置,用于对基板上的异物进行检查和处理,其特征在于,包括:

承载台,用于承载基板;

设置在基板两侧的光源,所述光源设置在所述承载台上;

设置在所述承载台上的固定架;

设置在所述固定架上的第一图像传感器,用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的位置和面积信息,并可在所述基板相对应的上方区域内移动;

设置在所述固定架上的异物处理组件,用于对检测到的异物进行处理,减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值。

2.根据权利要求1所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件包括:

设置在所述固定架上的第二图像传感器,用于在基板上的异物的面积大于第二预设值时,测量捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的高度信息;

研磨机构,用于在异物高度超过所述第一预设值时,通过研磨使得异物的高度小于第一预设值。

3.根据权利要求2所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件还包括:

用于通过烧蚀清除异物的激光发射装置。

4.根据权利要求3所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述固定架上设有与所述承载台平行设置的多条导轨,所述第一图像传感器和所述异物处理组件设置在所述导轨上。

5.根据权利要求4所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件还包括:

与所述导轨连接的连接部;

与所述连接部连接的安装部,用于设置所述研磨机构和/或激光发射部件和/或所述第二图像传感器。

6.根据权利要求5所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述研磨机构包括设置在所述安装部的转轮,以及缠绕在所述转轮上的、用于研磨异物的卷带。

7.根据权利要求2-6任一项所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述第二图像传感器为所述第一图像传感器。

8.一种曝光机,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的异物检查处理装置。

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