[实用新型]一种异物检查处理装置及曝光机有效
申请号: | 201320045952.6 | 申请日: | 2013-01-28 |
公开(公告)号: | CN203054450U | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 黄常刚;张思凯;汪栋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G01B11/00;G01B11/28;G01N21/88 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 异物 检查 处理 装置 曝光 | ||
1.一种异物检查处理装置,用于对基板上的异物进行检查和处理,其特征在于,包括:
承载台,用于承载基板;
设置在基板两侧的光源,所述光源设置在所述承载台上;
设置在所述承载台上的固定架;
设置在所述固定架上的第一图像传感器,用于捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的位置和面积信息,并可在所述基板相对应的上方区域内移动;
设置在所述固定架上的异物处理组件,用于对检测到的异物进行处理,减小基板上的异物的高度,以使得异物的高度小于第一预设值。
2.根据权利要求1所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件包括:
设置在所述固定架上的第二图像传感器,用于在基板上的异物的面积大于第二预设值时,测量捕捉由基板上的异物经所述光源照射而发生散射的光线、并成像,以获得异物的高度信息;
研磨机构,用于在异物高度超过所述第一预设值时,通过研磨使得异物的高度小于第一预设值。
3.根据权利要求2所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件还包括:
用于通过烧蚀清除异物的激光发射装置。
4.根据权利要求3所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述固定架上设有与所述承载台平行设置的多条导轨,所述第一图像传感器和所述异物处理组件设置在所述导轨上。
5.根据权利要求4所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述异物处理组件还包括:
与所述导轨连接的连接部;
与所述连接部连接的安装部,用于设置所述研磨机构和/或激光发射部件和/或所述第二图像传感器。
6.根据权利要求5所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述研磨机构包括设置在所述安装部的转轮,以及缠绕在所述转轮上的、用于研磨异物的卷带。
7.根据权利要求2-6任一项所述的异物检查处理装置,其特征在于,所述第二图像传感器为所述第一图像传感器。
8.一种曝光机,其特征在于,包括权利要求1-7任一项所述的异物检查处理装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320045952.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:废料输送装置
- 下一篇:用于皮带机的皮带跑偏调整装置