[实用新型]旋转剪切流塔盘有效

专利信息
申请号: 201320063113.7 申请日: 2013-02-04
公开(公告)号: CN203090513U 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 沈宏 申请(专利权)人: 沈宏
主分类号: B01D3/30 分类号: B01D3/30;B01D3/14;B01D53/18;B01J19/00;B01J19/32
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司 33201 代理人: 王兵;黄美娟
地址: 310014 浙江省杭州市下*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 旋转 剪切 流塔盘
【权利要求书】:

旋转剪切流塔盘,包括塔盘,其特征在于:所述的塔盘上设置若干降液管、若干喷射斜孔,所述的降液管的一端固定在所述的塔盘的外圈、另一端向塔盘中心延伸直至连通在塔盘下方的中心集液管内,所述的中心集液管出液口通入位于中心集液管下方的受液槽内,所述的降液管沿所述的塔盘的周向排布形成一圈降液管圈,并且所述的降液管固定在所述的塔盘的一端高出所述的塔盘上表面;所述的受液槽通过拉筋板与中心集液管连接,并利用中心集液管出口与受液槽溢出口之间的液位差形成液封,且所述的受液槽的槽壁上设置溢出口;所述的喷射斜孔以所述的塔盘的中心为圆心周向排列形成的若干圈同心的喷射斜孔圈,且位于所述的降液管圈的圆内的所述的喷射斜孔圈的喷射口顺、逆时针间隔排列、位于所述的降液管圈的圆外的所述的喷射斜孔圈的喷射口朝向所述的塔盘的中心。

如权利要求1所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的降液管圈的圆外设置一圈所述的喷射斜孔圈。

如权利要求2所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:每圈所述的喷射斜孔圈上的喷射斜孔均匀排列。

如权利要求3所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的降液管圈中的降液管均匀排列。

如权利要求1所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的中心集液管和所述的受液槽均位于所述的塔盘中心的正下方。

如权利要求4所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的喷射斜孔根据塔盘的需求制成不同的形状。

如权利要求6所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的喷射斜孔可采用舌形喷射孔、圆弧形喷射孔、矩形喷射孔或三角形状的喷射孔。

如权利要求5所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的塔盘的最外缘设置一圈卡子,且所述的塔盘通过卡子固定在与塔壁相焊接的支撑圈上。

如权利要求7所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:所述的喷射斜孔的倾斜角为2~85度。

如权利要求8所述的旋转剪切流塔盘,其特征在于:当塔体的直径小于1m时,相邻的塔盘之间通过圆环支架支撑,且塔盘与塔体之间的缝隙用填料密封圈封牢。

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