[实用新型]一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统有效
| 申请号： | 201320071078.3 | 申请日： | 2013-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN203092352U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 熊世伟;陈枫 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 带有 自动 清洗 装置 化学 机械抛光 研磨 供应 系统 | ||
【权利要求书】：
一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于，所述研磨液供应系统至少包括：
至少一个供应箱，每个供应箱包括至少一个入液口和出液口；
设于所述供应箱外壁且与外壁接触的兆声波发生器；
用于提供供应箱清洗液的清洗液供应系统，与所述供应箱入液口相连接；
用于抽取所述供应箱中清洗液的循环泵，与所述供应箱出液口相连接。
根据权利要求1所述的一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于：所述供应箱底部呈V字型。
根据权利要求2所述的一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于：所述供应箱为两个，每一个供应箱外壁设有两个兆声波发生器。
根据权利要求3所述的一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于：所述兆声波发生器位于供应箱底部外壁。
根据权利要求4所述的一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于：所述兆声波发生器包括输出频率为100~900KHz的兆声波发生装置。
根据权利要求1所述的一种带有自动清洗装置的化学机械抛光研磨液供应系统，其特征在于：所述清洗液为去离子水。
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