[实用新型]一种用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构

权利要求书

1.一种用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构，包括：

壳体，壳体的顶部设有气流入口，壳体的底部设有气流出口；

其特征在于该反应器结构还包括：

第一气体分布器，设置在所述壳体内，用于对进入壳体内的气流进行一次再分布，该第一气体分布器的入口连接所述的气流入口；

第二气体分布器，设置在所述壳体内，用于对进入壳体内的气流进行二次再分布，以使气流均匀进入催化剂床层；该第二气体分布器包括筒状结构的外筒体和分别设置在外筒体上、下两端的罩网和底板，所述外筒体上设有气孔，所述底板的中部设有连接孔，并且该底板坐落在第一隔热层上；所述第一隔热层由填充在所述壳体底部的耐火球构成；所述外筒体与所述壳体的内壁之间间隔有间隙；

气体收集器，套设在所述的外筒体内，用于收集反应后气流，包括内筒体和设置在该内筒体的上端口上的封盖，该内筒体的下端口穿过所述的连接孔连通所述的气流出口，所述内筒体上设有进气孔；所述封盖与所述罩网之间间隔有间隙；

格栅，径向设置在所述的壳体内，位于所述第二气体分布器的上方，所述格栅和所述罩网之间填充有由耐火球构成的第二隔热层。

2.根据权利要求1所述的用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构，其特征在于所述封盖与所述罩网之间的距离为所述内筒体与所述外筒体之间距离的0.5~2.0倍。

3.根据权利要求1或2所述的用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构，其特征在于所述气孔的大小及其在所述外筒体上的分布以控制气流以均匀的速度进入催化剂床层，且该速度为2～20米/秒；所述进气孔的大小及其在所述内筒体上的分布以控制气流进入所述内筒体内的流速为10~30米/秒。

4.根据权利要求3所述的用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构，其特征在于所述壳体包括筒状主体和设置在该筒状主体的上、下两端的上封头和下封头，所述筒状主体的长径比为1.0~5.0。

5.根据权利要求4所述的用于耐硫变换工艺的轴径向反应器结构，其特征在于所述外筒体的内壁上、所述内筒体的外壁上均设有用于止挡催化剂的丝网。